Thermal Stability of Neodymium Aluminates High-κ Dielectric Deposited by Liquid Injection MOCVD Using Single-Source Heterometallic Alkoxide Precursors
المؤلفون المشاركون
Taechakumput, P.
Werner, M.
Taylor, S.
Chalker, P. R.
Gaskell, J. M.
Aspinall, H. C.
Jones, A. C.
Chen, Susu
Zhao, Ce Zhou
المصدر
العدد
المجلد 2012، العدد 2012 (31 ديسمبر/كانون الأول 2012)، ص ص. 1-4، 4ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2012-04-09
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
4
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
Thin films of neodymium aluminate (NdAlOx) have been deposited by liquid injection metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) using the bimetallic alkoxide precursor [NdAl(OPri)6(PriOH)]2.
The effects of high-temperature postdeposition annealing on NdAlOx thin films are reported.
The as-deposited thin films are amorphous in nature.
X-ray diffraction (XRD) and medium energy ion scattering (MEIS) show, respectively, no crystallization or interdiffusion of metal ions into the substrate after annealing at 950°C.
The capacitance-voltage (C-V) and current-voltage (I-V) characteristics of the thin films exhibited good electrical integrity following annealing.
The dielectric permittivity (κ) of the annealed NdAlOx was 12, and a density of interface states at flatband (Dit) of 4.01×1011 cm−2 eV−1 was measured.
The deposited NdAlOx thin films are shown to be able to endure high-temperature stress and capable of maintaining excellent dielectric properties.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Taechakumput, P.& Zhao, Ce Zhou& Taylor, S.& Werner, M.& Chalker, P. R.& Gaskell, J. M.…[et al.]. 2012. Thermal Stability of Neodymium Aluminates High-κ Dielectric Deposited by Liquid Injection MOCVD Using Single-Source Heterometallic Alkoxide Precursors. Journal of Nanomaterials،Vol. 2012, no. 2012, pp.1-4.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1029311
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Taechakumput, P.…[et al.]. Thermal Stability of Neodymium Aluminates High-κ Dielectric Deposited by Liquid Injection MOCVD Using Single-Source Heterometallic Alkoxide Precursors. Journal of Nanomaterials No. 2012 (2012), pp.1-4.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1029311
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Taechakumput, P.& Zhao, Ce Zhou& Taylor, S.& Werner, M.& Chalker, P. R.& Gaskell, J. M.…[et al.]. Thermal Stability of Neodymium Aluminates High-κ Dielectric Deposited by Liquid Injection MOCVD Using Single-Source Heterometallic Alkoxide Precursors. Journal of Nanomaterials. 2012. Vol. 2012, no. 2012, pp.1-4.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1029311
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-1029311
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر