Optimization of the Cathode Arc Plasma Deposition Processing Parameters of ZnO Film Using the Grey-Relational Taguchi Method
المؤلفون المشاركون
Chou, Jyh Horng
Weng, Min-Hang
Hsu, Shuo-Fu
Fang, Chun-Hsiung
المصدر
Advances in Materials Science and Engineering
العدد
المجلد 2014، العدد 2014 (31 ديسمبر/كانون الأول 2014)، ص ص. 1-6، 6ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2014-05-08
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
6
الملخص EN
We deposited undoped ZnO films on the glass substrate at a low temperature (<70°C) using cathode arc plasma deposition (CAPD) and the grey-relational Taguchi method was used to determine the processing parameters of ZnO thin films.
The Taguchi method with an L9 orthogonal array, signal-to-noise ( S / N ) ratio, and analysis of variance (ANOVA) is employed to investigate the performances in the deposition operations.
The effect and optimization of deposition parameters, comprising the Ar : O2 gas flow ratio of 1 : 6, 1 : 8, and 1 : 10, the arc current of 50 A, 60 A, and 70 A, and the deposition time of 5 min, 10 min, and 15 min, on the electrical resistivity and optical transmittance of the ZnO films are studied.
The results indicate that, by using the grey-relational Taguchi method, the optical transmittance of ZnO thin films increases from 88.17% to 88.82% and the electrical resistivity decreases from 5.12 × 10 - 3 Ω -cm to 4.38 × 10 - 3 Ω -cm, respectively.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Hsu, Shuo-Fu& Chou, Jyh Horng& Fang, Chun-Hsiung& Weng, Min-Hang. 2014. Optimization of the Cathode Arc Plasma Deposition Processing Parameters of ZnO Film Using the Grey-Relational Taguchi Method. Advances in Materials Science and Engineering،Vol. 2014, no. 2014, pp.1-6.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1034242
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Hsu, Shuo-Fu…[et al.]. Optimization of the Cathode Arc Plasma Deposition Processing Parameters of ZnO Film Using the Grey-Relational Taguchi Method. Advances in Materials Science and Engineering No. 2014 (2014), pp.1-6.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1034242
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Hsu, Shuo-Fu& Chou, Jyh Horng& Fang, Chun-Hsiung& Weng, Min-Hang. Optimization of the Cathode Arc Plasma Deposition Processing Parameters of ZnO Film Using the Grey-Relational Taguchi Method. Advances in Materials Science and Engineering. 2014. Vol. 2014, no. 2014, pp.1-6.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1034242
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-1034242
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر