العوامل المؤثرة في عزوف طلبة كلية الآداب عن الدوام في الجامعة : دراسة ميدانية لطلبة كلية الآداب في جامعتي دمشق و تشرين
العناوين الأخرى
Factors affecting students' reluctance to work at university : a field study for students of the faculty of arts at the universities of Damascus and Tishreen
المؤلفون المشاركون
المصدر
مجلة جامعة تشرين للبحوث و الدراسات العلمية : سلسلة الآداب و العلوم الإنسانية
العدد
المجلد 41، العدد 2 (30 إبريل/نيسان 2019)، ص ص. 441-456، 16ص.
الناشر
تاريخ النشر
2019-04-30
دولة النشر
سوريا
عدد الصفحات
16
التخصصات الرئيسية
علم الاجتماع و الأنثروبولوجيا و الخدمة الاجتماعية
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
برقلاوي، هناء ورندا إسماعيل. 2019. العوامل المؤثرة في عزوف طلبة كلية الآداب عن الدوام في الجامعة : دراسة ميدانية لطلبة كلية الآداب في جامعتي دمشق و تشرين. مجلة جامعة تشرين للبحوث و الدراسات العلمية : سلسلة الآداب و العلوم الإنسانية،مج. 41، ع. 2، ص ص. 441-456.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1161440
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
برقلاوي، هناء ورندا إسماعيل. العوامل المؤثرة في عزوف طلبة كلية الآداب عن الدوام في الجامعة : دراسة ميدانية لطلبة كلية الآداب في جامعتي دمشق و تشرين. مجلة جامعة تشرين للبحوث و الدراسات العلمية : سلسلة الآداب و العلوم الإنسانية مج. 41، ع. 2 (2019)، ص ص. 441-456.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1161440
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
برقلاوي، هناء ورندا إسماعيل. العوامل المؤثرة في عزوف طلبة كلية الآداب عن الدوام في الجامعة : دراسة ميدانية لطلبة كلية الآداب في جامعتي دمشق و تشرين. مجلة جامعة تشرين للبحوث و الدراسات العلمية : سلسلة الآداب و العلوم الإنسانية. 2019. مج. 41، ع. 2، ص ص. 441-456.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1161440
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
العربية
الملاحظات
رقم السجل
BIM-1161440
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر