دراسة توسع العتمة لأيونات شبيهة الهليوم في بلازما الألمنيوم المنتجة بواسطة الليزر
العناوين الأخرى
Study of opacity broadening in spectral lines for helium like ions in aluminum plasma which produced by laser
المؤلف
المصدر
العدد
المجلد 8، العدد 1 (31 مارس/آذار 2011)، ص ص. 54-58، 5ص.
الناشر
جامعة بغداد كلية العلوم للبنات
تاريخ النشر
2011-03-31
دولة النشر
العراق
عدد الصفحات
5
التخصصات الرئيسية
الموضوعات
الملخص AR
تم أجراء دراسة تحليله لدراسة توسع العتمة الحاصلة للخطوط الطيفية المنبعثة من بلازما الألمنيوم المنتجة بواسطة ليزر Nd-YLF تراوحت كثافة البلازما المدروسة بين m-3)1028-1026 ) و طول البلازما حوالي mμ300 و تمت دراسة العتمة كدالة لكل من كثافة البلازما و العدد الكمي الأساسي لمستويات الطاقة للخطوط الطيفية المنبعثة، أظهرت النتائج زيادة مقدار توسع العتمة بزيادة كثافة البلازما و كذلك كلما قل الفرق بين مستويات الطاقة للخطوط الطيفية المنبعثة.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
بهنام، نبيل جنان. 2011. دراسة توسع العتمة لأيونات شبيهة الهليوم في بلازما الألمنيوم المنتجة بواسطة الليزر. مجلة بغداد للعلوم،مج. 8، ع. 1، ص ص. 54-58.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-268599
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
بهنام، نبيل جنان. دراسة توسع العتمة لأيونات شبيهة الهليوم في بلازما الألمنيوم المنتجة بواسطة الليزر. مجلة بغداد للعلوم مج. 8، ع. 1 (2011)، ص ص. 54-58.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-268599
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
بهنام، نبيل جنان. دراسة توسع العتمة لأيونات شبيهة الهليوم في بلازما الألمنيوم المنتجة بواسطة الليزر. مجلة بغداد للعلوم. 2011. مج. 8، ع. 1، ص ص. 54-58.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-268599
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
العربية
الملاحظات
يتضمن مراجع ببليوجرافية : ص. 57-58
رقم السجل
BIM-268599
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
منصة "معرفة" للكتاب العربي الجامعي الرقمي 
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
