Development of Laser-Produced Tin Plasma-Based EUV Light Source Technology for HVM EUV Lithography
المؤلفون المشاركون
Mizoguchi, Hakaru
Hori, Tsukasa
Yanagida, Tatsuya
Fujimoto, Junichi
المصدر
Physics Research International
العدد
المجلد 2012، العدد 2012 (31 ديسمبر/كانون الأول 2012)، ص ص. 1-11، 11ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2012-09-05
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
11
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
Since 2002, we have been developing a carbon dioxide (CO2) laser-produced tin (Sn) plasma (LPP) extreme ultraviolet (EUV) light source, which is the most promising solution because of the 13.5 nm wavelength high power (>200 W) light source for high volume manufacturing.
EUV lithography is used for its high efficiency, power scalability, and spatial freedom around plasma.
We believe that the LPP scheme is the most feasible candidate for the EUV light source for industrial use.
We have several engineering data from our test tools, which include 93% Sn ionization rate, 98% Sn debris mitigation by a magnetic field, and 68% CO2 laser energy absorption rate.
The way of dispersion of Sn by prepulse laser is key to improve conversion efficiency (CE).
We focus on prepulsed laser pulsed duration.
When we have optimized pulse duration from nanosecond to picosecond, we have obtained maximum 4.7% CE (CO2 laser to EUV; our previous data was 3.8%) at 2 mJ EUV pulse energy.
Based on these data we are developing our first light source as our product: “GL200E.” The latest data and the overview of EUV light source for the industrial EUV lithography are reviewed in this paper.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Fujimoto, Junichi& Hori, Tsukasa& Yanagida, Tatsuya& Mizoguchi, Hakaru. 2012. Development of Laser-Produced Tin Plasma-Based EUV Light Source Technology for HVM EUV Lithography. Physics Research International،Vol. 2012, no. 2012, pp.1-11.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-457301
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Yanagida, Tatsuya…[et al.]. Development of Laser-Produced Tin Plasma-Based EUV Light Source Technology for HVM EUV Lithography. Physics Research International No. 2012 (2012), pp.1-11.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-457301
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Fujimoto, Junichi& Hori, Tsukasa& Yanagida, Tatsuya& Mizoguchi, Hakaru. Development of Laser-Produced Tin Plasma-Based EUV Light Source Technology for HVM EUV Lithography. Physics Research International. 2012. Vol. 2012, no. 2012, pp.1-11.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-457301
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-457301
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر