Sensitivity on the Dipole Moments of the τ-Neutrino at e+e- Colliders : ILC and CLIC
المؤلف
المصدر
Advances in High Energy Physics
العدد
المجلد 2014، العدد 2014 (31 ديسمبر/كانون الأول 2014)، ص ص. 1-5، 5ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2014-02-26
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
5
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
We study the sensitivity on the anomalous magnetic and electric dipole moments of the τ-neutrino at a high-energy and high-luminosity linear electron positron collider, such as the ILC or CLIC, through the reaction e+e-→νν̅γ.
We obtain limits on the dipole moments at the future linear colliders energies.
For integrated luminosities of 500 fb−1 and center of mass energies between 0.5 and 3 TeV, the future e+e- colliders may improve the existing limits by two or three orders of magnitude.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Gutiérrez-Rodríguez, A.. 2014. Sensitivity on the Dipole Moments of the τ-Neutrino at e+e- Colliders : ILC and CLIC. Advances in High Energy Physics،Vol. 2014, no. 2014, pp.1-5.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-475840
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Gutiérrez-Rodríguez, A.. Sensitivity on the Dipole Moments of the τ-Neutrino at e+e- Colliders : ILC and CLIC. Advances in High Energy Physics No. 2014 (2014), pp.1-5.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-475840
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Gutiérrez-Rodríguez, A.. Sensitivity on the Dipole Moments of the τ-Neutrino at e+e- Colliders : ILC and CLIC. Advances in High Energy Physics. 2014. Vol. 2014, no. 2014, pp.1-5.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-475840
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-475840
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر