Simulation par la dynamique moléculaire de l'interaction plasma-surface lors de la croissance de couches minces a-Si:H par procédés PECVD
By: Kebaili, H. O.; Babahani, O.; Khalfawi, F.. Annales des Sciences et Technologie. Vol. 6, no. 2 (2014), pp.165-171, 7 p.
Subjects: Microelectronics