حركة البلورة المعزولة بفعل المجال الكهربائي

Abstract AR

درست حركة البحوث الحبيبة لبلورة معزولة (بلورة أحادية صغيرة الحجم داخل بلورة أحادية كبيرة الحجم) من الألمنيوم النقي، على نموذجين، ففي النموذج الأول استخدام تيار كهربائي مستمر كثتفته 4200 أمبير / سم2 و في درجة حرارة 500 م˚ و لمدة 48 ساعة.

فتحركت الحدود الحبيبة في الجزء العلوي مسافة 15 مايكرون باتجاه تحدب الحبيبية و باتجاه القطب الموجب بينما تحركت الحدود الحبيبية في الجزء الأسفل مسافة 30 مايكرون و باتجاه تقعر الحد الحبيبي و باتجاه القطب الموجب أيضا و يتوقع أن يكون المسؤول عن هذه الحركات هي أقوى الكهربائية و خاصة قوة تصادم الإلكترونيات مع أيونات المعدن (مياه الإلكترون)، إذ تعتبر هي المسيطرة على الإزاحات في الجزء العلوي بينما تكون رياح الإلكترون مضافا إليها قوة المجال الحراري هما المسؤولان عن الإزاحات في الجزء الأسفل.

أما الحدود الحبيبية في الجزء الأيمن و الأيسر حيث تكون الحدود الحبيبية موازية للمجال الكهربائي فلم تلاحظ أي تحرك باتجاه مركز التكور للحد الحبيبي، و قد قورنت هذه الإزاحات مع نموذج ثاني يحتوي على بلورة معزولة وذلك بتسخينه بنفس درجة الحرارة و المدة الزمنية و لكن كل فرن كهربائي أنبوبي عادي، فكانت الإزاحات كما هومتوقع باتجاه مركز التكور فقط.