![](/images/graphics-bg.png)
An Efficient Synthesis of Phenols via Oxidative Hydroxylation of Arylboronic Acids Using (NH4)2S2O8
المؤلفون المشاركون
Contreras-Celedón, Claudia
Chacón-García, Luis
Lira-Corral, Nancy Judith
المصدر
العدد
المجلد 2014، العدد 2014 (31 ديسمبر/كانون الأول 2014)، ص ص. 1-5، 5ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2014-03-17
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
5
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
A mild and efficient method for the ipso-hydroxylation of arylboronic acids to the corresponding phenols was developed using (NH4)2S2O8 as an oxidizing agent.
The reactions were performed under metal-, ligand-, and base-free conditions.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Contreras-Celedón, Claudia& Chacón-García, Luis& Lira-Corral, Nancy Judith. 2014. An Efficient Synthesis of Phenols via Oxidative Hydroxylation of Arylboronic Acids Using (NH4)2S2O8. Journal of Chemistry،Vol. 2014, no. 2014, pp.1-5.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1040018
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Contreras-Celedón, Claudia…[et al.]. An Efficient Synthesis of Phenols via Oxidative Hydroxylation of Arylboronic Acids Using (NH4)2S2O8. Journal of Chemistry No. 2014 (2014), pp.1-5.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1040018
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Contreras-Celedón, Claudia& Chacón-García, Luis& Lira-Corral, Nancy Judith. An Efficient Synthesis of Phenols via Oxidative Hydroxylation of Arylboronic Acids Using (NH4)2S2O8. Journal of Chemistry. 2014. Vol. 2014, no. 2014, pp.1-5.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1040018
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-1040018
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
![](/images/ebook-kashef.png)
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
![](/images/kashef-image.png)