On the Resistance-Harary Index of Graphs Given Cut Edges
المؤلفون المشاركون
Wang, Hongzhuan
Hua, Hongbo
Zhang, Libing
Wen, Shu
المصدر
العدد
المجلد 2017، العدد 2017 (31 ديسمبر/كانون الأول 2017)، ص ص. 1-7، 7ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2017-12-21
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
7
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
Graphs are often used to describe the structure of compounds and drugs.
Each vertex in the graph represents the molecule and each edge represents the bond between the atoms.
The resistance distance between any two vertices is equal to the resistance between the two points of an electrical network.
The Resistance-Harary index is defined as the sum of reciprocals of resistance distances between all pairs of vertices.
In this paper, the extremal graphs with maximum Resistance-Harary index are determined in connected graphs with given vertices and cut edges.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Wang, Hongzhuan& Hua, Hongbo& Zhang, Libing& Wen, Shu. 2017. On the Resistance-Harary Index of Graphs Given Cut Edges. Journal of Chemistry،Vol. 2017, no. 2017, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1171708
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Wang, Hongzhuan…[et al.]. On the Resistance-Harary Index of Graphs Given Cut Edges. Journal of Chemistry No. 2017 (2017), pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1171708
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Wang, Hongzhuan& Hua, Hongbo& Zhang, Libing& Wen, Shu. On the Resistance-Harary Index of Graphs Given Cut Edges. Journal of Chemistry. 2017. Vol. 2017, no. 2017, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1171708
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-1171708
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر