Irregularity Measures for Metal-Organic Networks
المؤلفون المشاركون
Chu, Yu-Ming
Virk, Abaid ur Rehman
Li, Jingjng
Guo, Xuan
Hashmi, Muhammad Khalid
المصدر
Mathematical Problems in Engineering
العدد
المجلد 2020، العدد 2020 (31 ديسمبر/كانون الأول 2020)، ص ص. 1-11، 11ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2020-08-01
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
11
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
Topological index plays an important role in predicting physicochemical properties of a molecular structure.
With the help of the topological index, we can associate a single number with a molecular graph.
Drugs and other chemical compounds are frequently demonstrated as different polygonal shapes, trees, graphs, etc.
In this paper, we will compute irregularity indices for metal-organic networks.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Guo, Xuan& Chu, Yu-Ming& Hashmi, Muhammad Khalid& Virk, Abaid ur Rehman& Li, Jingjng. 2020. Irregularity Measures for Metal-Organic Networks. Mathematical Problems in Engineering،Vol. 2020, no. 2020, pp.1-11.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1194841
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Guo, Xuan…[et al.]. Irregularity Measures for Metal-Organic Networks. Mathematical Problems in Engineering No. 2020 (2020), pp.1-11.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1194841
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Guo, Xuan& Chu, Yu-Ming& Hashmi, Muhammad Khalid& Virk, Abaid ur Rehman& Li, Jingjng. Irregularity Measures for Metal-Organic Networks. Mathematical Problems in Engineering. 2020. Vol. 2020, no. 2020, pp.1-11.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1194841
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-1194841
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر