Graded band gap a-Si, S : H. thin Films for high efficiency solar cells

المؤلفون المشاركون

al-Dallah, Shawqi
al-Allawi, Salih

المصدر

Arab Journal of Basic and Applied Sciences

العدد

المجلد 4، العدد 0 (31 أغسطس/آب 2007)، ص ص. 52-57، 6ص.

الناشر

جامعة البحرين كلية العلوم

تاريخ النشر

2007-08-31

دولة النشر

البحرين

عدد الصفحات

6

التخصصات الرئيسية

الفيزياء

الموضوعات

الملخص AR

بينت الدراسات النظرية ن القيمة العظمى للكمون الضوئي تسوي التغير في فرجة النطاق على امتداد المنطقة المثارة.

و من هذا المنطلق فإن فرجة النطاق المتدرجة لها القدرة على جمع أكبر كمية ممكنة من الإشعاع الشمسي، و بالتالي تكوين كثافة عالية من أزواج الالكترونات-الثقوب.

لقد بينا في عمل سابق أن إضافة ذرات من عنصر الكبريت إلى شبيكة السيليكون يؤدي إلى زيادة قيمة فرجة النطاق في رقائق الــ a-Si : H.

استخدمنا هذه الفكرة لتحضير مادة متدرجة فرجة النطاق و ذلك بزيادة كمية الكبريت في البلازما بصورة تدريجية أو بتخفيض طاقة البلازما طاقة البلازما للمزيج الغازي تدريجيا.

و قد درسنا في الجزء الأخير من هذا البحث تطبيقات هذه المدة في الخلايا الشمسية.

الملخص EN

Theoretical work has shown that the maximum expected photo voltage is equal to the band gap variation along the excited region.

Thus, graded band gap material has the potential to collect the maximum solar radiation and creates a high density of electron-hole pairs.

We have shown in a previous work that addition of sulfur atoms to the silicon matrix increases the band gap ofa-Si.H thin films.

We used this fact to prepare a variable band gap material by either increasing gradually the sulfur content in the plasma discharge or decreasing continuously the plasma power delivered to the gaseous mixture.

The potential use of this material for solar cell application is investigated.

نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)

al-Dallah, Shawqi& al-Allawi, Salih. 2007. Graded band gap a-Si, S : H. thin Films for high efficiency solar cells. Arab Journal of Basic and Applied Sciences،Vol. 4, no. 0, pp.52-57.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-246790

نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)

al-Dallah, Shawqi& al-Allawi, Salih. Graded band gap a-Si, S : H. thin Films for high efficiency solar cells. Arab Journal of Basic and Applied Sciences Vol. 4 (Aug. 2007), pp.52-57.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-246790

نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)

al-Dallah, Shawqi& al-Allawi, Salih. Graded band gap a-Si, S : H. thin Films for high efficiency solar cells. Arab Journal of Basic and Applied Sciences. 2007. Vol. 4, no. 0, pp.52-57.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-246790

نوع البيانات

مقالات

لغة النص

الإنجليزية

الملاحظات

Includes bibliographical references : p. 56

رقم السجل

BIM-246790