المسلك التكنولوجي لتصميم عدد السحب لقالب سحب عميق
العناوين الأخرى
Technological sequences for design of non-cylindrical deep drawing tools
المؤلفون المشاركون
المصدر
العدد
المجلد 24، العدد 3 (31 ديسمبر/كانون الأول 2005)14ص.
الناشر
تاريخ النشر
2005-12-31
دولة النشر
العراق
عدد الصفحات
14
التخصصات الرئيسية
العلوم الهندسية والتكنولوجية (متداخلة التخصصات)
الموضوعات
الملخص AR
في عمليات السحب و منها السحب العميق فان شكل المنتج النهائي يعتمد على عدد السحب(tools)و حدود الغفل(blank)و العوامل المؤثرة في عملية السحب العميق.
و يمكن أن تعطي التصميم الخاطئ لعدد السحب منتج بشكل منحرف أو فاشل. يناول هذا البحث إعداد مسلك تكنولوجي لتصميم عدد السحب لقوالب السحب العميق ذات الشكل المستطيل أو القريبة للشكل المستطيل و لإنجاز ذلك تم اختيار وعاء بدن الماء(الجليكان) كوعاء مطلوب انتاجه من الفولاذ14-St و بسمك 0.8 ملم.
إذ تم إعداد مسلك تكنولوجي لتصميم عدد السحب لقالب السحب العميق لهذا الوعاء و تنفيذه و إجراء التجارب العملية لإنتاج هذه الأوعية حيث تم الحصول على نتائج جيدة و بدون أي عيوب.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
عتيوي، علي حسين وعبد فارس علي. 2005. المسلك التكنولوجي لتصميم عدد السحب لقالب سحب عميق. مجلة الهندسة والتكنولوجيا،مج. 24، ع. 3.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-293677
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
عتيوي، علي حسين وعبد فارس علي. المسلك التكنولوجي لتصميم عدد السحب لقالب سحب عميق. مجلة الهندسة والتكنولوجيا مج. 24، ع. 3 (2005).
https://search.emarefa.net/detail/BIM-293677
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
عتيوي، علي حسين وعبد فارس علي. المسلك التكنولوجي لتصميم عدد السحب لقالب سحب عميق. مجلة الهندسة والتكنولوجيا. 2005. مج. 24، ع. 3.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-293677
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
العربية
الملاحظات
يتضمن ملاحق.
رقم السجل
BIM-293677
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر