![](/images/graphics-bg.png)
Removal of 4-chlorophenoles from simulated wastewater by advanced oxidation processes
المؤلفون المشاركون
Abd al-Mustafa, Yasmin
Shihab, Ahmad Hamid
المصدر
العدد
المجلد 18، العدد 10 (31 أكتوبر/تشرين الأول 2012)، ص ص. 1115-1127، 13ص.
الناشر
تاريخ النشر
2012-10-31
دولة النشر
العراق
عدد الصفحات
13
التخصصات الرئيسية
الموضوعات
الملخص AR
تم التحقق من فاعلية استخدام طرق الأكسدة الحديثة (AOPs) للنظامين UV / H2O2 و UV / H2O2 / Fe+3 لأكسدة و تحلل مادة الكلوروفينول (4-CP).
التفاعل تأثر باختلاف الكميات المضافة من بيروكسيد الهيدروجين (H2O2)، كميـــــة الحديد كعامل مساعد، نوعية العامل المساعد Fe+3 و Fe+2، pH و تراكيز المحلول للكلوروفينول.
المواد الملونة متمثلة بال (benzoquinone) تم ملاحظتها بعد 5 دقائق من بدء التجربة لنظام UV / H2O2 عند استعمال تركيز قليل لبيروكسيد الهيدروجين (0.01 mol / L).
كذلك تم ملاحظة ظهور المواد الملونة بعد 5 دقائق من بدء التجربة لنظام UV / H2O2 / Fe+3 عند استعمال تراكيز عالية من الكلوروفينول (ppm100).
النتائج بينت أن إضافة الحديد (Fe+3) كعامل مساعد إلى لنظام UV / H2O2 و بنسبة مولارية 13/0.4/1 ل H2O2 / Fe+3 / 4-CP أعطت تحلل أعلى بمقدار 7 مرات و أدت إلى تقليل مادة ال H2O2 المضافة بمقدار 6 مرات و أن الزمن اللازم للوصول إلى التحلل الكامل انخفض بمقدار6 مرات.
التراكيز المثلى اللازمة للحصول على تـــحلل كامل للكلوروفينول بتركيز50 ppm هي Fe+3=0.16*10-3mol / L، H2O2=0.005mol / L عند وســط حامضـي 3 = pH و بزمن 15 دقيــقة للنــظام UV / H2O2 / Fe+3 و بنسبة مولارية 13 /0.4 / 1.
الملخص EN
The degradation and mineralization of 4-chlorophenol (4-CP) by advanced oxidation processes (AOPs) was investigated in this work, using both of UV / H2O2 and photo-Fenton UV / H2O2 / Fe+3 systems.
The reaction was influenced by the input concentration of H2O2, the amount of the iron catalyst, the type of iron salt, the pH and the concentration of 4-CP.
A colored solution of benzoquinon can be observed through the first 5 minutes of irradiation time for UV / H2O2 system when low concentration (0.01mol / L) of H2O2 was used.
The colored solution of benzoquinon could also be observed through the first 5 minutes for the UV / H2O2 / Fe+3 system at high concentration (100ppm) of 4-CP.
The results have shown that adding Fe+3 to the UV / H2O2 system enhanced the rate of 4-CP oxidation at a molar ratio of H2O2 / Fe+3 / 4-CP equals to 13 / 0.4 / 1 by a factor of 7.
This reduced the consumption of H2O2 by a factor of 6 and the irradiation time required for complete degradation was reduced by a factor of 6.
The experimental results have shown that the optimum reagents for a complete degradation of 4-CP (50ppm) were H2O2.= 0.005mol / L, Fe+3 = 0.16 * 10-3 mol / L under acidic condition (pH = 3) and irradiation time of 15 min for the UV / H2O2 / Fe+3 system with a molar ratio of H2O2 / Fe+3 / 4-CP equals to 13 / 0.4 / 1.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Abd al-Mustafa, Yasmin& Shihab, Ahmad Hamid. 2012. Removal of 4-chlorophenoles from simulated wastewater by advanced oxidation processes. Journal of Engineering،Vol. 18, no. 10, pp.1115-1127.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-315898
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Abd al-Mustafa, Yasmin& Shihab, Ahmad Hamid. Removal of 4-chlorophenoles from simulated wastewater by advanced oxidation processes. Journal of Engineering Vol. 18, no. 10 (Oct. 2012), pp.1115-1127.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-315898
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Abd al-Mustafa, Yasmin& Shihab, Ahmad Hamid. Removal of 4-chlorophenoles from simulated wastewater by advanced oxidation processes. Journal of Engineering. 2012. Vol. 18, no. 10, pp.1115-1127.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-315898
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references : p. 1126-1127
رقم السجل
BIM-315898
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
![](/images/ebook-kashef.png)
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
![](/images/kashef-image.png)