Preparation of Cu thin film by cylindrical magnetron sputtering device
العناوين الأخرى
تحضير الأغشية النحاسية بواسطة منظومة الترذيذ المغناطيسي ذات الأبعاد الاسطوانية
المؤلفون المشاركون
Abd Allah, Rahman Rustum
Abbas, Qusayy Adnan
Jiyad, Baha Tumah
المصدر
العدد
المجلد 7، العدد 8 (30 إبريل/نيسان 2009)، ص ص. 25-32، 8ص.
الناشر
تاريخ النشر
2009-04-30
دولة النشر
العراق
عدد الصفحات
8
التخصصات الرئيسية
الملخص AR
في هذا البحث، تم تصميم و بناء منظومة الترذيذ المغناطيسي ذات التيار المستمر.
إن حجرة هذه المنظومة تتكون من أسطوانتين نحاسيتين متداخلتين.
الداخلية منها تستعمل كقطب سالب بينما الخارجية منها تستعمل كقطب موجب.
حيث أن ملف المغناطيسي موضوع على السطح الخارجي للأسطوانة الخارجية (القطب الموجب).
أن توزيع المجال المغناطيسي لمختلف التيارات المارة بالملف من 2 أمبير إلى 14 أمبير قد وثقت.
تم دراسة تأثير المجال المغناطيسي على أسماك الأغشية النحاسية المحضرة تحت ضغط ثابت مقداره 7x10-5 ملي بار.
إن نتائج هذا البحث قد بينت بأن سلوك التفريغ الكهربائي يعتمد على قيم المجال المغناطيسي حيث لوحظ بأن المجال المغناطيسي يمتلك أفضل قيمة عندما تكون القدرة الممتصة من قبل البلازما أعظم ما يمكن.
بالإضافة إلى ذلك خصائص البلازما قد قيست باستخدام مجس لانجمور المستوي لغرض معرفة سلوك البلازما خلال عملية الترذيذ.
الملخص EN
In the present work, a D.C.
magnetron sputtering system was designed and fabricated.
This chamber of this system includes two coaxial cylinders made from copper .the inner one used as a cathode while the outer one used as a node.
The magnetic coils located on the outer cylinder (anode).
The profile of magnetic field for various coil current (from 2Amp to 14Amp) are shown.
The effect of different magnetic field on the Cu thin films thickness at constant pressure of 7 x 10-5mbar is investigated.
The result shown that, the electrical behavior of the discharge strongly depends on the values of the magnetic field and shows an optimum value at which the power absorbed by the plasma is maximum.
Furthermore, the plasma characterization was also measured by Planar Langmuir probe to given information bout the behavior of plasma through the sputtering process.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Jiyad, Baha Tumah& Abbas, Qusayy Adnan& Abd Allah, Rahman Rustum. 2009. Preparation of Cu thin film by cylindrical magnetron sputtering device. Iraqi Journal of Physics،Vol. 7, no. 8, pp.25-32.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-338171
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Jiyad, Baha Tumah…[et al.]. Preparation of Cu thin film by cylindrical magnetron sputtering device. Iraqi Journal of Physics Vol. 7, no. 8 (2009), pp.25-32.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-338171
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Jiyad, Baha Tumah& Abbas, Qusayy Adnan& Abd Allah, Rahman Rustum. Preparation of Cu thin film by cylindrical magnetron sputtering device. Iraqi Journal of Physics. 2009. Vol. 7, no. 8, pp.25-32.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-338171
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references : p. 32
رقم السجل
BIM-338171
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر