Reactive Pulsed Laser Deposition of Titanium Nitride Thin Films : Effect of Reactive Gas Pressure on the Structure, Composition, and Properties
المؤلفون المشاركون
Tyagi, Ashok Kumar
Ajikumar, P. K.
Tripura Sundari, S.
Nithya, R.
Jayaram, Vikram
Krishnan, R.
Raj, Baldev
Panigrahi, B. K.
Kamruddin, M.
David, C.
Dash, Sitaram
المصدر
العدد
المجلد 2013، العدد 2013 (31 ديسمبر/كانون الأول 2013)، ص ص. 1-5، 5ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2013-01-15
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
5
التخصصات الرئيسية
علم المواد والمعادن
هندسة مدنية
الملخص EN
Titanium nitride (TiN) thin films were deposited by reactive pulsed laser deposition (RPLD) technique.
For the first time, the composition evaluated from proton elastic backscattering spectrometry, in a quantitative manner, revealed a dependence on the partial pressure of nitrogen from 1 to 10 Pa.
Grazing incidence-XRD (GI-XRD) confirmed the formation of predominantly nanocrystalline TiN phase with a crystallite size of around 30 nm.
The hardness showed maximum value of ~30 GPa when the composition is near stoichiometric and the friction coefficient was found to be as low as 0.3.
In addition, a systematic optical response was observed as a function of deposition pressure from the surface of the TiN films using spectroscopic ellipsometry.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Krishnan, R.& David, C.& Ajikumar, P. K.& Nithya, R.& Tripura Sundari, S.& Dash, Sitaram…[et al.]. 2013. Reactive Pulsed Laser Deposition of Titanium Nitride Thin Films : Effect of Reactive Gas Pressure on the Structure, Composition, and Properties. Journal of Materials،Vol. 2013, no. 2013, pp.1-5.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-447947
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Krishnan, R.…[et al.]. Reactive Pulsed Laser Deposition of Titanium Nitride Thin Films : Effect of Reactive Gas Pressure on the Structure, Composition, and Properties. Journal of Materials No. 2013 (2013), pp.1-5.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-447947
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Krishnan, R.& David, C.& Ajikumar, P. K.& Nithya, R.& Tripura Sundari, S.& Dash, Sitaram…[et al.]. Reactive Pulsed Laser Deposition of Titanium Nitride Thin Films : Effect of Reactive Gas Pressure on the Structure, Composition, and Properties. Journal of Materials. 2013. Vol. 2013, no. 2013, pp.1-5.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-447947
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-447947
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر