![](/images/graphics-bg.png)
Effect of Oxygen Partial Pressure on the Electrical and Optical Properties of DC Magnetron Sputtered Amorphous TiO2 Films
المؤلفون المشاركون
Kondaiah, Paruchuri
Uthanna, Suda
Chandra Sekhar, M.
Radha Krishna, B.
المصدر
العدد
المجلد 2013، العدد 2013 (31 ديسمبر/كانون الأول 2013)، ص ص. 1-7، 7ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2012-10-18
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
7
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
Titanium dioxide (TiO2) thin films were deposited on p-Si (100) and Corning glass substrates held at room temperature by DC magnetron sputtering at different oxygen partial pressures in the range 9 × 10−3–9 × 10−2 Pa.
The influence of oxygen partial pressure on the structural, electrical, and optical properties of the deposited films was systematically studied.
XPS studies confirmed that the film formed at an oxygen partial pressure of 6×10−2 Pa was nearly stoichiometric.
TiO2 films formed at all oxygen partial pressures were X-ray amorphous.
The optical transmittance gradually increased and the absorption edge shifted towards shorter wavelengths with the increase of oxygen partial pressure.
Thin film capacitors with configuration of Al/TiO2/p-Si have been fabricated.
The results showed that the leakage current density of films formed decreased with the increase of oxygen partial pressure to 6×10−2 Pa owing to the decrease in the oxygen defects in the films thereafter it was increased.
The current transport mechanism in the TiO2 thin films is shown to be Schottky effect and Fowler-Nordheim tunnelling currents.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Chandra Sekhar, M.& Kondaiah, Paruchuri& Radha Krishna, B.& Uthanna, Suda. 2012. Effect of Oxygen Partial Pressure on the Electrical and Optical Properties of DC Magnetron Sputtered Amorphous TiO2 Films. Journal of Spectroscopy،Vol. 2013, no. 2013, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-473500
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Chandra Sekhar, M.…[et al.]. Effect of Oxygen Partial Pressure on the Electrical and Optical Properties of DC Magnetron Sputtered Amorphous TiO2 Films. Journal of Spectroscopy No. 2013 (2013), pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-473500
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Chandra Sekhar, M.& Kondaiah, Paruchuri& Radha Krishna, B.& Uthanna, Suda. Effect of Oxygen Partial Pressure on the Electrical and Optical Properties of DC Magnetron Sputtered Amorphous TiO2 Films. Journal of Spectroscopy. 2012. Vol. 2013, no. 2013, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-473500
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-473500
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
![](/images/ebook-kashef.png)
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
![](/images/kashef-image.png)