A Method for Fabricating Arrays of Nanopatterns with the Feature Size beyond Diffraction Limit
المؤلفون المشاركون
Du, Chunlei
Zhang, Yudong
Li, Shuhong
Dong, Xiaochun
Shi, Lifang
المصدر
Research Letters in Nanotechnology
العدد
المجلد 2008، العدد 2008 (31 ديسمبر/كانون الأول 2008)، ص ص. 1-4، 4ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2008-12-14
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
4
التخصصات الرئيسية
الكيمياء
تكنولوجيا المعلومات وعلم الحاسوب
علوم
الملخص EN
A convenient lithographic technique is proposed in this paper, which can be used to produce subdiffraction-limit arrays of nanopatterns over large areas (about several square centimeters).
An array of polystyrene spheres (PS) is arranged on the surface of a layer of silver which has a thickness of about tens of nanometers.
With the normal illumination light of wavelength 365 nm perpendicular to the substrate, PS can generate an array of optical patterns with high intensity at their contact points with silver.
By designing the silver slab, the evanescent waves that carry subwavelength information about the optical patterns are substantially enhanced, while propagating components are restrained.
In the photoresist which is on the other side of silver, the optical intensity is redistributed and subdiffraction-limit patterns are obtained after exposure and development.
Simulation by finite-difference time-domain (FDTD) and experiments were carried out to verify the technique.
The results show that by using PS with diameter of 600 nm, nanopatterns with dimension of less than 80 nm can be obtained.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Li, Shuhong& Shi, Lifang& Dong, Xiaochun& Du, Chunlei& Zhang, Yudong. 2008. A Method for Fabricating Arrays of Nanopatterns with the Feature Size beyond Diffraction Limit. Research Letters in Nanotechnology،Vol. 2008, no. 2008, pp.1-4.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-475961
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Li, Shuhong…[et al.]. A Method for Fabricating Arrays of Nanopatterns with the Feature Size beyond Diffraction Limit. Research Letters in Nanotechnology No. 2008 (2008), pp.1-4.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-475961
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Li, Shuhong& Shi, Lifang& Dong, Xiaochun& Du, Chunlei& Zhang, Yudong. A Method for Fabricating Arrays of Nanopatterns with the Feature Size beyond Diffraction Limit. Research Letters in Nanotechnology. 2008. Vol. 2008, no. 2008, pp.1-4.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-475961
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-475961
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر