Line Search-Based Inverse Lithography Technique for Mask Design
المؤلفون المشاركون
المصدر
العدد
المجلد 2012، العدد 2012 (31 ديسمبر/كانون الأول 2012)، ص ص. 1-9، 9ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2012-10-15
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
9
التخصصات الرئيسية
العلوم الهندسية و تكنولوجيا المعلومات
الملخص EN
As feature size is much smaller than the wavelength of illumination source of lithography equipments, resolution enhancement technology (RET) has been increasingly relied upon to minimize image distortions.
In advanced process nodes, pixelated mask becomes essential for RET to achieve an acceptable resolution.
In this paper, we investigate the problem of pixelated binary mask design in a partially coherent imaging system.
Similar to previous approaches, the mask design problem is formulated as a nonlinear program and is solved by gradient-based search.
Our contributions are four novel techniques to achieve significantly better image quality.
First, to transform the original bound-constrained formulation to an unconstrained optimization problem, we propose a new noncyclic transformation of mask variables to replace the wellknown cyclic one.
As our transformation is monotonic, it enables a better control in flipping pixels.
Second, based on this new transformation, we propose a highly efficient line search-based heuristic technique to solve the resulting unconstrained optimization.
Third, to simplify the optimization, instead of using discretization regularization penalty technique, we directly round the optimized gray mask into binary mask for pattern error evaluation.
Forth, we introduce a jump technique in order to jump out of local minimum and continue the search.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Zhao, Xin& Chu, Chris. 2012. Line Search-Based Inverse Lithography Technique for Mask Design. VLSI Design،Vol. 2012, no. 2012, pp.1-9.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-483106
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Zhao, Xin& Chu, Chris. Line Search-Based Inverse Lithography Technique for Mask Design. VLSI Design No. 2012 (2012), pp.1-9.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-483106
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Zhao, Xin& Chu, Chris. Line Search-Based Inverse Lithography Technique for Mask Design. VLSI Design. 2012. Vol. 2012, no. 2012, pp.1-9.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-483106
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-483106
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر