![](/images/graphics-bg.png)
Modeling and Simulation of a Chemical Vapor Deposition
المؤلفون المشاركون
المصدر
Journal of Applied Mathematics
العدد
المجلد 2011، العدد 2011 (31 ديسمبر/كانون الأول 2011)، ص ص. 1-25، 25ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2011-03-09
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
25
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
We are motivated to model PE-CVD (plasma enhanced chemical vapor deposition) processes for metallic bipolar plates, and their optimization for depositing a heterogeneous layer on the metallic plate.
Moreover a constraint to the deposition process is a very low pressure (nearly a vacuum) and a low temperature (about 400 K).
The contribution of this paper is to derive a multiphysics system of multiple physics problems that includes some assumptions to simplify the complicate process and allows of deriving a computable mathematical model without neglecting the real-life processes.
To model the gaseous transport in the apparatus we employ mobile gas phase streams, immobile and mobile phases in a chamber that is filled with porous medium (plasma layers).
Numerical methods are discussed to solve such multi-scale and multi phase models and to obtain qualitative results for the delicate multiphysical processes in the chamber.
We discuss a splitting analysis to couple such multiphysical problems.
The verification of such a complicated model is done with real-life experiments for single species.
Such numerical simulations help to economize on expensive physical experiments and obtain control mechanisms for the delicate deposition process.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Geiser, Juergen& Arab, M.. 2011. Modeling and Simulation of a Chemical Vapor Deposition. Journal of Applied Mathematics،Vol. 2011, no. 2011, pp.1-25.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-487558
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Geiser, Juergen& Arab, M.. Modeling and Simulation of a Chemical Vapor Deposition. Journal of Applied Mathematics No. 2011 (2011), pp.1-25.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-487558
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Geiser, Juergen& Arab, M.. Modeling and Simulation of a Chemical Vapor Deposition. Journal of Applied Mathematics. 2011. Vol. 2011, no. 2011, pp.1-25.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-487558
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-487558
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
![](/images/ebook-kashef.png)
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
![](/images/kashef-image.png)