![](/images/graphics-bg.png)
The Effects of RF Sputtering Power and Gas Pressure on Structural and Electrical Properties of ITiO Thin Film
المؤلفون المشاركون
Sung, Youl-moon
Kwak, Dong-Joo
Chaoumead, Accarat
المصدر
Advances in Condensed Matter Physics
العدد
المجلد 2012، العدد 2012 (31 ديسمبر/كانون الأول 2012)، ص ص. 1-7، 7ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2012-10-24
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
7
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
Transparent conductive titanium-doped indium oxide (ITiO) films were deposited on corning glass substrates by RF magnetron sputtering method.
The effects of RF sputtering power and Ar gas pressure on the structural and electrical properties of the films were investigated experimentally, using a 2.5 wt% TiO2-doped In2O3 target.
The deposition rate was in the range of around 20~60 nm/min under the experimental conditions of 5~20 mTorr of gas pressure and 220~350 W of RF power.
The lowest volume resistivity of 1.2×10−4 Ω-cm and the average optical transmittance of 75% were obtained for the ITiO film, prepared at RF power of 300 W and Ar gas pressure of 15 mTorr.
This volume resistivity of 1.2×10−4 Ω-cm is low enough as a transparent conducting layer in various electrooptical devices, and it is comparable with that of ITO or ZnO:Al conducting layer.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Chaoumead, Accarat& Sung, Youl-moon& Kwak, Dong-Joo. 2012. The Effects of RF Sputtering Power and Gas Pressure on Structural and Electrical Properties of ITiO Thin Film. Advances in Condensed Matter Physics،Vol. 2012, no. 2012, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-488330
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Chaoumead, Accarat…[et al.]. The Effects of RF Sputtering Power and Gas Pressure on Structural and Electrical Properties of ITiO Thin Film. Advances in Condensed Matter Physics No. 2012 (2012), pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-488330
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Chaoumead, Accarat& Sung, Youl-moon& Kwak, Dong-Joo. The Effects of RF Sputtering Power and Gas Pressure on Structural and Electrical Properties of ITiO Thin Film. Advances in Condensed Matter Physics. 2012. Vol. 2012, no. 2012, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-488330
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-488330
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
![](/images/ebook-kashef.png)
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
![](/images/kashef-image.png)