Simulation and Experimental Study of Photogeneration and Recombination in Amorphous-Like Silicon Thin Films Deposited by 27.12 MHz Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
المؤلفون المشاركون
Yang, Chih-Hsiang
Tsou, Chia-Chi
Lien, Shui-Yang
Hsieh, In-Cha
المصدر
International Journal of Photoenergy
العدد
المجلد 2013، العدد 2013 (31 ديسمبر/كانون الأول 2013)، ص ص. 1-6، 6ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2013-06-05
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
6
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
Amorphous-like silicon (a-Si:H-like) thin films are prepared by 27.12 MHz plasma-enhanced chemical vapor deposition technique.
The films are applied to p-i-n single junction thin film solar cells with varying i-layer thickness to observe the effects on the short-circuit current density, as well as the open-circuit voltage, fill factor, and conversion efficiency.
The most significant experimental result is that Jsc has two different behaviors with increasing the i-layer thickness, which can be related to carrier collection efficiency in the long wavelength region.
Furthermore, technology computer-aided design simulation software is used to gain better insight into carrier generation and recombination of the solar cells, showing that for the i-layer thickness of 200 to 300 nm the generation dominates the carrier density and thus Jsc, whereas for the i-layer thickness of 300 to 400 nm the recombination becomes the leading factor.
The simulation results of cell performances are in good agreement with experimental data, indicating that our simulation has great reliability.
In addition, the a-Si:H-like solar cells have low light-induced degradation, which in turn can have a great potential to be used for stable and high-efficiency solar cells.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Yang, Chih-Hsiang& Hsieh, In-Cha& Tsou, Chia-Chi& Lien, Shui-Yang. 2013. Simulation and Experimental Study of Photogeneration and Recombination in Amorphous-Like Silicon Thin Films Deposited by 27.12 MHz Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition. International Journal of Photoenergy،Vol. 2013, no. 2013, pp.1-6.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-491500
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Yang, Chih-Hsiang…[et al.]. Simulation and Experimental Study of Photogeneration and Recombination in Amorphous-Like Silicon Thin Films Deposited by 27.12 MHz Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition. International Journal of Photoenergy No. 2013 (2013), pp.1-6.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-491500
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Yang, Chih-Hsiang& Hsieh, In-Cha& Tsou, Chia-Chi& Lien, Shui-Yang. Simulation and Experimental Study of Photogeneration and Recombination in Amorphous-Like Silicon Thin Films Deposited by 27.12 MHz Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition. International Journal of Photoenergy. 2013. Vol. 2013, no. 2013, pp.1-6.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-491500
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-491500
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر