Optical and Electrical Properties of Magnetron Sputtering Deposited Cu–Al–O Thin Films
المؤلفون المشاركون
Che, Xingsen
Liu, Zhengtang
Zhang, Yongjian
Feng, Liping
Zang, Duyang
Li, Yanyan
المصدر
International Journal of Antennas and Propagation
العدد
المجلد 2012، العدد 2012 (31 ديسمبر/كانون الأول 2012)، ص ص. 1-7، 7ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2012-08-13
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
7
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
We have successfully prepared Cu–Al–O films on silicon (100) and quartz substrates with copper and aluminum composite target by using radio frequency (RF) magnetron sputtering method.
We have related the structural and optical-electrical properties of the films to the sputtering area ratio of Cu/Al for the target (rCu/Al).
The deposition rate of the film and rCu/Al can be fitted by an exponential function.
rCu/Al plays a critical role in the final phase constitution and the preferred growth orientation of the CuAlO2 phase, thus affecting the film surface morphology significantly.
The film with main phase of CuAlO2 has been obtained with rCu/Al of 45%.
The films show p-type conductivity.
With the increase of rCu/Al, the electrical resistivity decreases first and afterwards increases again.
With rCu/Al of 45%, the optimum electrical resistivity of 80 Ω·cm is obtained, with the optical transmittance being 72%–79% in the visible region (400–760 nm).
The corresponding direct band gap and indirect band gap are estimated to be 3.6 eV and 1.7 eV, respectively.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Zhang, Yongjian& Liu, Zhengtang& Zang, Duyang& Feng, Liping& Che, Xingsen& Li, Yanyan. 2012. Optical and Electrical Properties of Magnetron Sputtering Deposited Cu–Al–O Thin Films. International Journal of Antennas and Propagation،Vol. 2012, no. 2012, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-500917
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Zhang, Yongjian…[et al.]. Optical and Electrical Properties of Magnetron Sputtering Deposited Cu–Al–O Thin Films. International Journal of Antennas and Propagation No. 2012 (2012), pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-500917
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Zhang, Yongjian& Liu, Zhengtang& Zang, Duyang& Feng, Liping& Che, Xingsen& Li, Yanyan. Optical and Electrical Properties of Magnetron Sputtering Deposited Cu–Al–O Thin Films. International Journal of Antennas and Propagation. 2012. Vol. 2012, no. 2012, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-500917
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-500917
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر