![](/images/graphics-bg.png)
Deposition of Low Stress Silicon Nitride Thin Film and Its Application in Surface Micromachining Device Structures
المؤلفون المشاركون
Xue, Wei
Wang, Quan
Chen, Yifeng
Zhou, Chen
Zheng, Beirong
المصدر
Advances in Materials Science and Engineering
العدد
المجلد 2013، العدد 2013 (31 ديسمبر/كانون الأول 2013)، ص ص. 1-4، 4ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2013-10-31
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
4
التخصصات الرئيسية
العلوم الهندسية و تكنولوجيا المعلومات
الملخص EN
Surface machining processes are responsible for creating microstructures that reside near the surfaces of a substrate and are characterized by the fabrication of micromechanical structures from deposited thin films.
These films can be selectively removed to build three-dimensional structures whose functionality typically requires that they should be freed from the planar substrate.
Silicon nitride thin film is one of these important materials.
In this paper, by adjusting the SiH2Cl2/NH3 gaseous ratio, low stress silicon nitride (LS SiN) is deposited by the low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) process.
The internal stress generally in 135 MPa has been detected using an FLX-2320 film stress tester.
Based on the wide application in surface micromachining devices, the mechanical properties of LS SiN are measured by nanoindentation, giving the value of Young’s modulus of 224 GPa and the hardness of 22.5 GPa, respectively.
Dry etching and wet etching are utilized to fabricate the LS SiN thin film for structural layers.
The etching rate compared with normal Si3N4 film by LPCVD is demonstrated for silicon chip manufacture.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Zheng, Beirong& Zhou, Chen& Wang, Quan& Chen, Yifeng& Xue, Wei. 2013. Deposition of Low Stress Silicon Nitride Thin Film and Its Application in Surface Micromachining Device Structures. Advances in Materials Science and Engineering،Vol. 2013, no. 2013, pp.1-4.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-501966
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Zheng, Beirong…[et al.]. Deposition of Low Stress Silicon Nitride Thin Film and Its Application in Surface Micromachining Device Structures. Advances in Materials Science and Engineering No. 2013 (2013), pp.1-4.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-501966
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Zheng, Beirong& Zhou, Chen& Wang, Quan& Chen, Yifeng& Xue, Wei. Deposition of Low Stress Silicon Nitride Thin Film and Its Application in Surface Micromachining Device Structures. Advances in Materials Science and Engineering. 2013. Vol. 2013, no. 2013, pp.1-4.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-501966
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-501966
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
![](/images/ebook-kashef.png)
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
![](/images/kashef-image.png)