Electrophoretic deposition of In2O3 nanoparticles prepared by PLAL in water

العناوين الأخرى

ترسيب بالانتقال الكهربائي لجسيمات In2D3 النانوية المحضرة بطريقة PLAL في الماء

المؤلف

Hassun, Khalil I.

المصدر

Engineering and Technology Journal

العدد

المجلد 33، العدد 2 (28 فبراير/شباط 2015)، ص ص. 338-345، 8ص.

الناشر

الجامعة التكنولوجية

تاريخ النشر

2015-02-28

دولة النشر

العراق

عدد الصفحات

8

التخصصات الرئيسية

الفيزياء

الموضوعات

الملخص AR

تم تحضير جسيمات أوكسيد الانديوم النانوية في الماء باستخدام تقنية القشط في السائل باستعمال الليزر النبضي.

تم استخدام ليزر النيودميوم-ياك كمصدر ضوئي قاشط.

رسبت الجسيمات النانوية بواسطة طريقة الترسيب المباشر على شرائح سيليكونية و قد رسبت على قواعد زجاجية مغطاة بأوكسيد القصدير المشوب بالانديوم المسماة ITO بواسطة طريقة الانتقال الكهربائي.

درست الخواص البصرية للمحلول الغروي (الجسيمات النانوية في الماء) بواسطة مقياس الطيف الضوئي و قد رسبت بشكل غشاء رقيق جداً على القواعد الزجاجية.

لغرض تقدير خشونة السطح و حجم الجسيمات النانوية رسب المحلول الغروي على شرائح سيليكونية و تصويرها بواسطة مجهر القوة الذرية AFM.

من ناحية أخرى صور الغشاء الرقيق لأوكسيد الانديوم بواسطة المجهر الإلكتروني الماسح لمعرفة طبيعة سطح الغشاء النانوي المحضر.

أظهرت نتائج تحليلات مقياس الطيف الضوئي امتلاك الجسيمات النانوية لمعدل فجوة طاقة بحدود 3 إلكترون فولت و معدل قطر بحدود 30 نانومتر.

أظهرت طريقة الليزر أن سمك الغشاء المرسب بطريقة الانتقال الكهربائي على قواعد ITO هو بحدود 90 نانومتر.

أظهر صور المجهر الإلكتروني الماسح أن الغشاء المحضر بواسطة الانتقال الكهربائي على قواعد ITO هو ذو تركيب مسامي.

لوحظ أن الزمن الكلي في هذه الحالة أقل بكثير من الزمن اللازم للترسيب بتقنية التبخير الحراري في الفراغ أو الترسيب الكيميائي البخاري.

الملخص EN

Indium oxide nanoparticles were prepared in water using a Laser Pulsed Ablation technique in Liquid (PLAL).

The Nd:YAG laser was used as an ablation source.

The nanoparticles are deposited onto Si wafers by direct overcasting method and also glass substrates covered with Indium Tin Oxide (ITO) by electrophoretic deposition (EPD) method.

The optical properties for the colloid (nanoparticles in water) are studied with spectrophotometers.

UV–vis spectral analysis showed that the solutions have an absorption edge at 3 eV and average particle size about 30 nm.

In order to estimate the particle size of In2O3 in water, the colloidal solutions have been deposited on silicon wafers and imaged by Atomic Force Microscopy (AFM).

On the other hand, the Scanning Electron Microscope (SEM) is used to study the topographic nature of the prepared thin film.

The results of the spectrophotometric analysis show that the average energy gap and the average particle size of In2O3 nano particles were about 3 eV and about 30 nm ; respectively.

The interference technique which used to identify the thickness of the films, deposited by electrophoretic deposition, showed that the thickness is about 90 nm.

The images of SEM showed that the film, prepared by electrophoretic deposition on ITO substrates, is of porous structure.

We observed that the overall process time in this case is much shorter than CVD and PVD.

نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)

Hassun, Khalil I.. 2015. Electrophoretic deposition of In2O3 nanoparticles prepared by PLAL in water. Engineering and Technology Journal،Vol. 33, no. 2, pp.338-345.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-568235

نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)

Hassun, Khalil I.. Electrophoretic deposition of In2O3 nanoparticles prepared by PLAL in water. Engineering and Technology Journal Vol. 33, no. 2 (2015), pp.338-345.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-568235

نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)

Hassun, Khalil I.. Electrophoretic deposition of In2O3 nanoparticles prepared by PLAL in water. Engineering and Technology Journal. 2015. Vol. 33, no. 2, pp.338-345.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-568235

نوع البيانات

مقالات

لغة النص

الإنجليزية

الملاحظات

Includes bibliographical references : p. 345

رقم السجل

BIM-568235