Variation des coefficients de diffusion et d’activation du bore dans des films de polysilicium sous l’effet de la segregation et du piegeage
By: Mansur, F.; Abadli, S.; Mahamdi, R.. Sciences et Technologie : Sciences Appliquées. No. 20 (2003), pp.38-42, 5 p.
Subjects: Electrical properties; Silicon