Variation des coefficients de diffusion et d’activation du bore dans des films de polysilicium sous l’effet de la segregation et du piegeage

المؤلفون المشاركون

Mansur, F.
Abadli, S.
Mahamdi, R.

المصدر

Sciences et Technologie : Sciences Appliquées

العدد

المجلد 2003، العدد 20 (31 ديسمبر/كانون الأول 2003)، ص ص. 38-42، 5ص.

الناشر

جامعة الإخوة منتوري قسنطينة 1

تاريخ النشر

2003-12-31

دولة النشر

الجزائر

عدد الصفحات

5

التخصصات الرئيسية

الكيمياء

الموضوعات

الملخص EN

This work deals with the boron diffusion modelling into polycrystalline silicon obtained by LPCVD and implanted at high dose.

It is essential to control the doping impurity redistribution in those thin films for their applications as gates in standard CMOS technology.

During the thermal post-implantation anneals, boron diffuses through the thin layers towards sites where it can be electrically active.

However, the solid solubility excess due to the very strong doping and by ion implantation damages, lead to various phenomena such as segregation, clustering, and dopant trapping.

Taken these phenomena into account, we propose a theoretical approach, based on the classical vacancy diffusion model, in which new terms will be added : the trapping factor, the clusters rate and the doping activation rates.

The experimental SIMS profiles simulation will allow the study of the dopant transient enhanced diffusion, as well as the evaluation of the trapping and activation rates.

الملخص FRE

Ce travail s’intéresse à la modélisation de la diffusion du bore introduit par implantation ionique à forte dose dans des dépôts de silicium polycristallin obtenus par LPCVD.

Il est en effet primordial de contrôler la redistribution de l’impureté dopante dans ces films minces pour leur utilisation comme grille en technologie CMOS standard.

Durant les recuits thermiques post-implantation, le bore diffuse dans la couche mince en occupant des sites où il peut être électriquement actif.

Cependant, le dépassement de la solubilité solide dû au très fort dopage ainsi que les endommagements créés par l’implantation ionique, entraînent l’apparition de divers phénomènes tels que ségrégation, formation d’amas ou clusters et piégeage du dopant.

En tenant compte de ces phénomènes, nous proposons une approche théorique, basée sur le modèle classique lacunaire de la diffusion, auquel vont être greffés de nouveaux termes : le facteur de piégeage, le taux de clusters et le pourcentage d’activation du dopant.

La simulation de profils SIMS expérimentaux permettra d’étudier la diffusion transitoire accélérée du dopant, ainsi que d’évaluer son taux de piégeage et son pourcentage d’activation.

نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)

Mansur, F.& Abadli, S.& Mahamdi, R.. 2003. Variation des coefficients de diffusion et d’activation du bore dans des films de polysilicium sous l’effet de la segregation et du piegeage. Sciences et Technologie : Sciences Appliquées،Vol. 2003, no. 20, pp.38-42.
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نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)

Mansur, F.…[et al.]. Variation des coefficients de diffusion et d’activation du bore dans des films de polysilicium sous l’effet de la segregation et du piegeage. Sciences et Technologie : Sciences Appliquées No. 20 (2003), pp.38-42.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-443338

نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)

Mansur, F.& Abadli, S.& Mahamdi, R.. Variation des coefficients de diffusion et d’activation du bore dans des films de polysilicium sous l’effet de la segregation et du piegeage. Sciences et Technologie : Sciences Appliquées. 2003. Vol. 2003, no. 20, pp.38-42.
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نوع البيانات

مقالات

لغة النص

الفرنسية

الملاحظات

Includes bibliographical references : p. 42

رقم السجل

BIM-443338