Effect of sputtering pressure and partial pressure on structural properties of TiO2 thin films
العناوين الأخرى
تاثير ضغط الترذيذ والضغط الجزيئي على الخصائص التركيبية لأغشية ثنائي اوكسيد التيتانيوم المحضرة باستخدام الترذيذ بالتيار المستمر
المؤلفون المشاركون
Atiyyah, Raid Sattar
Yusr, Mahdiyah Ahmad
المصدر
العدد
المجلد 5، العدد 2 (31 ديسمبر/كانون الأول 2013)، ص ص. 15-20، 6ص.
الناشر
جامعة الكوفة كلية العلوم قسم الفيزياء
تاريخ النشر
2013-12-31
دولة النشر
العراق
عدد الصفحات
6
التخصصات الرئيسية
الملخص AR
تم في هذا البحث دراسة تأثير كل من ضغط الترذيذ و الضغط الجزيئي على الخصائص التركيبة لأغشية ثنائي أوكسيد التيتانيوم المحضرة باستخدام منظومة الترذيد بالتيار المستمر على أرضيات زجاجية.
الخطوة الأولى في البحث تم تثبيت الضغط الجزيئي للأوكسجين عند النسبة (% 5) و تغير ضغط غاز الترذيذ (18, 2.8, 3.8, 4.3 pa) و ثانيا تم تثبيت عند الضغط ) pa 8 .2) و تغير الضغط الجزيئي للأوكسجين (% 35 ,% 30 ,% 25 ,% 20 ,% 15 ,% 10).
من قياسات حيود الأشعة السينية تبين أن الأشعة عند الضغط ) pa 8.
1( تصبح بلورية التركيب و بطور الروتيل و بزيادة الضغط أكثر تصبح الأغشية وبالتحديد الضغط ) pa 4.3( بلورية التركيب و بطور الاناتاس و بتوجيهية (101)، بينما عند تثبيت النسبة و زيادة الضغط سوف نحصل على تركيب بلوري و بطور الاناتاس و بتوجيهه (101) عند النسبة % 20. قمنا بحساب الحجم الحبيبي للأغشية المحضرة كدالة لكل من ضغط الترذيذ مرة و الضغط الجزيئي مرة أخرى.
الملخص EN
Effect of sputtering pressure and partial pressure on structural properties of TiO2 films prepared using DC-sputtering to glass substrate was investigated.
Sputtering pressures are changed (1.8, 2.8, 3.8, 4.3 pa) at constant O2 / Ar Ratio (5 %).
Measurements reveal that the TiO2 films at the sputtering pressure 1.8 pa is amorphous, while at increasing pressure to 2.8 pa becomes crystalline with Rutile phase (110) and when we increase the pressure to 4.3 pa get crystalline structure with anatas phase ( 101).
Grain size is calculated per crystalline structure of the anatas and rutile (15.7) nm and (14.2) nm respectively.
For constant sputtering pressure (2.8pa) and changedO2 / Ar Ratio (10 %, 15 %, 20 %, 25 %, 30 %, 35 %),TiO2 thin films are a amorphous, except percentage (25 %) is crystalline with anatas phase (101) and with grain size (15.7 nm).
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Atiyyah, Raid Sattar& Yusr, Mahdiyah Ahmad. 2013. Effect of sputtering pressure and partial pressure on structural properties of TiO2 thin films. Journal of Kufa-Physics،Vol. 5, no. 2, pp.15-20.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-371956
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Atiyyah, Raid Sattar& Yusr, Mahdiyah Ahmad. Effect of sputtering pressure and partial pressure on structural properties of TiO2 thin films. Journal of Kufa-Physics Vol. 5, no. 2 (2013), pp.15-20.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-371956
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Atiyyah, Raid Sattar& Yusr, Mahdiyah Ahmad. Effect of sputtering pressure and partial pressure on structural properties of TiO2 thin films. Journal of Kufa-Physics. 2013. Vol. 5, no. 2, pp.15-20.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-371956
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references : p. 19-20
رقم السجل
BIM-371956
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر