Effect of sputtering pressure and partial pressure on structural properties of TiO2 thin films
Other Title(s)
تاثير ضغط الترذيذ والضغط الجزيئي على الخصائص التركيبية لأغشية ثنائي اوكسيد التيتانيوم المحضرة باستخدام الترذيذ بالتيار المستمر
Joint Authors
Atiyyah, Raid Sattar
Yusr, Mahdiyah Ahmad
Source
Issue
Vol. 5, Issue 2 (31 Dec. 2013), pp.15-20, 6 p.
Publisher
University of Kufa Faculty of Science Department of Physics
Publication Date
2013-12-31
Country of Publication
Iraq
No. of Pages
6
Main Subjects
Abstract AR
تم في هذا البحث دراسة تأثير كل من ضغط الترذيذ و الضغط الجزيئي على الخصائص التركيبة لأغشية ثنائي أوكسيد التيتانيوم المحضرة باستخدام منظومة الترذيد بالتيار المستمر على أرضيات زجاجية.
الخطوة الأولى في البحث تم تثبيت الضغط الجزيئي للأوكسجين عند النسبة (% 5) و تغير ضغط غاز الترذيذ (18, 2.8, 3.8, 4.3 pa) و ثانيا تم تثبيت عند الضغط ) pa 8 .2) و تغير الضغط الجزيئي للأوكسجين (% 35 ,% 30 ,% 25 ,% 20 ,% 15 ,% 10).
من قياسات حيود الأشعة السينية تبين أن الأشعة عند الضغط ) pa 8.
1( تصبح بلورية التركيب و بطور الروتيل و بزيادة الضغط أكثر تصبح الأغشية وبالتحديد الضغط ) pa 4.3( بلورية التركيب و بطور الاناتاس و بتوجيهية (101)، بينما عند تثبيت النسبة و زيادة الضغط سوف نحصل على تركيب بلوري و بطور الاناتاس و بتوجيهه (101) عند النسبة % 20. قمنا بحساب الحجم الحبيبي للأغشية المحضرة كدالة لكل من ضغط الترذيذ مرة و الضغط الجزيئي مرة أخرى.
Abstract EN
Effect of sputtering pressure and partial pressure on structural properties of TiO2 films prepared using DC-sputtering to glass substrate was investigated.
Sputtering pressures are changed (1.8, 2.8, 3.8, 4.3 pa) at constant O2 / Ar Ratio (5 %).
Measurements reveal that the TiO2 films at the sputtering pressure 1.8 pa is amorphous, while at increasing pressure to 2.8 pa becomes crystalline with Rutile phase (110) and when we increase the pressure to 4.3 pa get crystalline structure with anatas phase ( 101).
Grain size is calculated per crystalline structure of the anatas and rutile (15.7) nm and (14.2) nm respectively.
For constant sputtering pressure (2.8pa) and changedO2 / Ar Ratio (10 %, 15 %, 20 %, 25 %, 30 %, 35 %),TiO2 thin films are a amorphous, except percentage (25 %) is crystalline with anatas phase (101) and with grain size (15.7 nm).
American Psychological Association (APA)
Atiyyah, Raid Sattar& Yusr, Mahdiyah Ahmad. 2013. Effect of sputtering pressure and partial pressure on structural properties of TiO2 thin films. Journal of Kufa-Physics،Vol. 5, no. 2, pp.15-20.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-371956
Modern Language Association (MLA)
Atiyyah, Raid Sattar& Yusr, Mahdiyah Ahmad. Effect of sputtering pressure and partial pressure on structural properties of TiO2 thin films. Journal of Kufa-Physics Vol. 5, no. 2 (2013), pp.15-20.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-371956
American Medical Association (AMA)
Atiyyah, Raid Sattar& Yusr, Mahdiyah Ahmad. Effect of sputtering pressure and partial pressure on structural properties of TiO2 thin films. Journal of Kufa-Physics. 2013. Vol. 5, no. 2, pp.15-20.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-371956
Data Type
Journal Articles
Language
English
Notes
Includes bibliographical references : p. 19-20
Record ID
BIM-371956