![](/images/graphics-bg.png)
Effect of hf concentration on the ps structures prepared by photoelectrochemical etching
Other Title(s)
تاثير تركيز حامض الهيدروفلوريد على طبقة السليكون المسامي المحضر بطريقة التنميش الكهروكيميائي الضوئي
Joint Authors
Rashid, Bassam Ghalib
Dawud, Yasamin Z.
al-Hamdani, Ali Hadi Abd al-Munim
Source
Engineering and Technology Journal
Issue
Vol. 28, Issue 11 (31 Dec. 2010)
Publisher
Publication Date
2010-12-31
Country of Publication
Iraq
Main Subjects
Materials Science , Minerals
Electronic engineering
Topics
Abstract AR
تم إنتاج طبقة من السليكون المسامي بطريقة التنميش الكهروكيميائي الضوئي باستخدام قواعد سليكونية ثنائي الوصلة.
و دراسة تأثير تركيز حامض الهيدروفلوريد على تكوين طبقة السليكون المسامي من خلال التفاح ل الحاصل بين الحامض و سطح السليكون.
نلاحظ أن التركيب السطحي لطبقة السليكون المسامي دالة لتركيز الحامض المستخدم.
طبيعة السطح ذات تركيب أشبه بالأعمدة عند التراكيز القليلة بينما عند استخدام تراكيز عالية (40 %) يكون التركيب السطحي على شكل حفر.
كما تم ملاحظة زيادة في معدل التنميش بزيادة تركيز الحامض نتيجة لزيادة في عملية التفاعل و الذي سيأثر على عدد الأعمدة (التركيب السطحي) و الذي يزداد بزيادة تركيز الحامض.
Abstract EN
Porous silicon was fabricated at p-n junction wafer by photo electrochemical (PEC) etching.
Silicon wafer with various electrolyte containing different HF concentrations was used to explain PS formation by the reaction at the Si / electrolyte interface.
An investigation of the dependence on HF concentration to formed PS layer was made.
The surface morphology of PS layer was study as a function of HF concentration.
Pillar like structures are formed at low HF concentration and pores structures are obtained a at higher HF concentration (40%).
The etching rate increases with increasing HF concentration causing faster silicon dissolution.
Thus the total pillar volume would increase by increasing the HF concentration.
American Psychological Association (APA)
al-Hamdani, Ali Hadi Abd al-Munim& Rashid, Bassam Ghalib& Dawud, Yasamin Z.. 2010. Effect of hf concentration on the ps structures prepared by photoelectrochemical etching. Engineering and Technology Journal،Vol. 28, no. 11.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-263249
Modern Language Association (MLA)
al-Hamdani, Ali Hadi Abd al-Munim…[et al.]. Effect of hf concentration on the ps structures prepared by photoelectrochemical etching. Engineering and Technology Journal Vol. 28, no. 11 (2010).
https://search.emarefa.net/detail/BIM-263249
American Medical Association (AMA)
al-Hamdani, Ali Hadi Abd al-Munim& Rashid, Bassam Ghalib& Dawud, Yasamin Z.. Effect of hf concentration on the ps structures prepared by photoelectrochemical etching. Engineering and Technology Journal. 2010. Vol. 28, no. 11.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-263249
Data Type
Journal Articles
Language
English
Notes
Includes bibliographical references
Record ID
BIM-263249