Caractéristiques morphologiques et optiques du silicium nanoporeux préparé par anodisation électrochimique

Abstract FRE

L'anodisation du silicium dans des solutions d’acide hydrofluorique HF est une méthode acquise dans la préparation du silicium poreux avec des applications potentielles dans les domaines tels l’électronique, l’optique ainsi que la technologie chimique et celle des capteurs de gaz et des biocapteurs.

Le contrôle de la densité de courant et du temps d’anodisation permet de modifier l’épaisseur et le taux de porosité de la couche du silicium poreux ainsi formé.

Les échantillons du silicium nanoporeux sont préparés par anodisation électrochimique à partir du silicium monocristallin de type P, d’orientation (1,0,0) avec une faible résistivité de l’ordre de 1 Gcm et d’épaisseur voisine de 400 μm.

Les caractéristiques morphologiques, optiques ainsi que la composition chimique de nos échantillons sont étudiées et analysées pour différentes conditions d’anodisation.

Dans notre travail on a utilisé plusieurs techniques de caractérisations .Parmi ces techniques l’ellipsométrie.

Pour comprendre le comportement optique de ce matériau, on utilise un modèle théorique basé sur l’approximation des milieux effectifs (modèle de Bruggeman) afin de déterminer la relation entre l’indice de réfraction du film nanoporeux, sa porosité et son degré d’oxydation.