Stabilite thermique de films minces de nitrure de chrome (Cr-N)‎

Abstract FRE

Cette étude porte sur la stabilité thermique de couches minces dures de nitrure de chrome Cr-N, élaborées par dépôt physique en phase vapeur PVD (Physical Vapour deposition).

Nous avons suivi l’influence de la température de recuit sur la morphologie de films CrN, déposés sur des substrats de silicium par pulvérisation magnétron.

Nous avons procédé à des caractérisations en microscopie électronique à balayage (MEB) équipé en microanalyse X (EDX).

Des recuits sous azote d’une heure, entre 600°C et 1000°C, effectués sur des revêtements CrN d’épaisseur 530 nm, ont montré la stabilité thermique de ces revêtements aux basses températures.

A partir de 1000°C la phase CrN cède complètement la place à la phase Cr2O3.

Les résultats obtenus en MEB ET EDX sont comparés à ceux obtenus par DRX.