![](/images/graphics-bg.png)
Annealing effect on the growth of nanostructured TiO2 thinfilms by pulsed laser deposition (PLD)
Other Title(s)
تأثير التلوين على إنماء الأغشية الدقيقة ل (TiO2) ذات التركيب الثانوي بواسطة تركيب الليزر النبضي
Joint Authors
Yusuf, Ali Ahmad
Yahya, Khalid Z.
Kaduori, Sarmad S.
Haydar, Adawiya Jumah
Source
Engineering and Technology Journal
Issue
Vol. 31, Issue 4 (28 Feb. 2013), pp.460-470, 11 p.
Publisher
Publication Date
2013-02-28
Country of Publication
Iraq
No. of Pages
11
Main Subjects
Topics
Abstract AR
في هذه البحث, تم إنماء أغشية أوكسيد التيتانيوم (TiO2) النانوية بواسطة تقنية ترسيب الليزر النبضي (PLD) على قواعد زجاجية في درجة حرارة 300 مئوية.
و من ثم لدنت أغشية TiO2 الرقيقة من 400 إلى 600 درجة مئوية في الهواء لمدة ساعتين.
و تم دراسة تأثير التلدين على تركيب و طبوغرافية السطح و الخصائص البصرية.
من قياسات حيود الأشعة السينية (XRD) و مجهر القوة الذرية (AFM) أثبت بأن الأغشية المنمات بهذه الطريقة لها تبلور جيد و ذات تركيب رباعي و خليط من طورين الأناتاس و الروتيل و ذات سطح متجانس.
و تظهر الدراسة بأن قيم RMS للأغشية الرقيقة و الخشونة تزداد مع زيادة درجة الحرارة التلدين.
و تم دراسة الخصائص البصرية للأغشية في مطياف النفاذية للأشعة المرئية و فوق البنفسجية (قيست بواسطة مطياف UV-VIS).
نتائج النفاذية الضوئية تظهر بأن هنالك نفاذية أكثر من 65% و التي تقل مع زيادة درجات الحرارة التلدين.
فجوة الطاقة البصرية المسموحة الغير مباشرة الأغشية قدرة بحدود من 3.49 إلى 3.1 إلكترون فولت.
و وجد أن فجوة الطاقة البصرية المسموحة المباشرية تقل من 3.74 إلى 3.55 إلكترون فولت بزيادة درجة حرارة التلدين.
و وجد أن معامل الانكسار للأغشية تتراوح من 2.27 إلى 2.98 عند الطول الموجي 550 نانو متر.
و أن معامل الخمود يزداد بزيادة درجة حرارة التلدين.
Abstract EN
In this work, Nanostructured TiO2 thin films were grown by pulsed laser deposition (PLD) technique on glass substrates at 300 °C.
TiO2 thin films were then annealed at 400-600 °C in air for a period of 2 hours.
Effect of annealing on the structure, morphology and optical properties were studied.
The X-ray diffraction (XRD) and Atomic Force Microscopy (AFM) measurements confirmed that the films grown by this technique have good crystalline tetragonal mixed anatase and rutile phase structure and homogeneous surface.
The study also reveals that the RMS value of thin films roughness increased with increasing annealing temperature .The optical properties of the films were studied by UV-VIS spectrophotometer.
The optical transmission results shows that the transmission over than ~65% which decrease with the increasing of annealing temperatures.
The allowed indirect optical band gap of the films was estimated to be in the range from 3.49 to 3.1 eV.
The allowed direct band gap was found to decrease from 3.74 to 3.55 eV with the increase of annealing temperature.
The refractive index of the films was found from 2.27 -2.98 at 550nm.
The extinction coefficient increase with annealing temperature.
American Psychological Association (APA)
Kaduori, Sarmad S.& Yusuf, Ali Ahmad& Haydar, Adawiya Jumah& Yahya, Khalid Z.. 2013. Annealing effect on the growth of nanostructured TiO2 thinfilms by pulsed laser deposition (PLD). Engineering and Technology Journal،Vol. 31, no. 4, pp.460-470.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-346366
Modern Language Association (MLA)
Kaduori, Sarmad S.…[et al.]. Annealing effect on the growth of nanostructured TiO2 thinfilms by pulsed laser deposition (PLD). Engineering and Technology Journal Vol. 31, no. 4 B (2013), pp.460-470.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-346366
American Medical Association (AMA)
Kaduori, Sarmad S.& Yusuf, Ali Ahmad& Haydar, Adawiya Jumah& Yahya, Khalid Z.. Annealing effect on the growth of nanostructured TiO2 thinfilms by pulsed laser deposition (PLD). Engineering and Technology Journal. 2013. Vol. 31, no. 4, pp.460-470.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-346366
Data Type
Journal Articles
Language
English
Notes
Includes appendices : p. 466-470
Record ID
BIM-346366