Deposited nanostructure Cds thin film by using pulse laser deposition technique for fabrication of heterojunction solar cell
Other Title(s)
ﺗﺮﺳﯿﺐ أﻏﺸﯿﺔ ﻛﺎدﻣﯿﻮم ﺳﻠﻔﺎﯾﺪ اﻟﺮﻗﯿﻘﺔ اﻟﻨﺎﻧﻮﯾﺔ ﺑﺎﺳﺘﺨﺪام ﺗﻘﻨﯿﺔ اﻟﻠﯿﺰر النبضي لتصنيع خلية شمسية هجينة
Author
Source
Engineering and Technology Journal
Issue
Vol. 32, Issue 2B (28 Feb. 2014), pp.313-320, 8 p.
Publisher
Publication Date
2014-02-28
Country of Publication
Iraq
No. of Pages
8
Main Subjects
Topics
Abstract AR
في هذا البحث، تم ترسيب أغشية رقيقة نانوية من الكادميوم سلفايد على قواعد من السليكون الأحادي البلورة من النوع القابل لتصنيع خلايا شمسية هجينة باستخدام ليزر الذيودميوم-ياك النبضي ذو الطول الموجي 532 نانو متر.
تم ترسيب الأغشية عند درجة حرارة قاعدة 200 درجة مئوي.
أظهرت قياسات الأشعة السينية أن الأغشية المحضرة ذات طور الفرتزايت السداسي.
حددت خصائص طبوغرافية السطح من خلال قياس المجهر الالكتروني الماسح و مجهر القوى الذرية، حيث بلغت قيمة الحجم الحبيبي (18) نانو متر و قيمة خشونة السطح (12.6) نانو متر للأغشية المحضرة بدرجة حرارة قاعدة (200) مئوي.
أوضحت نتائج مطياف الأشعة المرئية و الفوق البنفسجية امتلاك غشاء الكادميوم سلفايد نفاذية بلغت بحدود 90 % و بلغت قيمة فجوة الطاقة المباشرة (2.2 الكترون.
فولط) درست الخواص الفولطائية المتمثلة بتيار الدائرة القصيرة (Jsc) و فولتية الدائرة المفتوحة (Voc) بالإضافة لعامل الملئ (FF) و وجد أن أعظم قيمة لكل من (Jsc) و (Voc) لحالة AM1 هي (2-29.3 (mA cmو 635 (Mv), على التوالي و أن قيمة عامل الملئ هي (0.44).
الخلية المصنعة أظهرت قيمة كفاءة جيدة بلغت 7.8 %.
Abstract EN
In the present study, nanostructure Cadmium sulfide (CdS) thin films on Si Ptype substrates heterojunction solar cell has been made by using a pulsed 532 nm Nd:YAG laser.
Deposition of films is achieved at 200 °C substrate temperatures and oxygen pressure 10-1 Torr.
X-ray diffraction (XRD), Scanning electron microscopy (SEM), atomic force microscope (AFM) and UV-VIS transmittance analyses were employed to characterize thin films.
XRD measurements approved that CdS film is a hexagonal Wurtzite structure.
The morphology of deposited films were characterized by scanning electron microscope (SEM) and atomic force microscope (AFM), the grain size value (18) nm and rms roughness values are (12.6 nm) for thin films deposited at 200ºC.
UV-VIS transmittance measurements have shown that our films are highly transparent in the visible wavelength region, with an average transmittance of ~90% .
The direct optical band gap of the film has been found to be 2.2 eV.The photovoltaic characteristics included short circuit current (Jsc), open circuit voltage (Voc), where the maximum (Jsc) and (Voc)obtained at AM1 were 29.3 (mA cm-2) and 635(mV), respectively.
The fill factor (FF) was (0.44).
The fabricated cell exhibits good performance with 7.8 % conversion efficiency.
American Psychological Association (APA)
Tariq, Hibah Salam. 2014. Deposited nanostructure Cds thin film by using pulse laser deposition technique for fabrication of heterojunction solar cell. Engineering and Technology Journal،Vol. 32, no. 2B, pp.313-320.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-371141
Modern Language Association (MLA)
Tariq, Hibah Salam. Deposited nanostructure Cds thin film by using pulse laser deposition technique for fabrication of heterojunction solar cell. Engineering and Technology Journal Vol. 32, no. 2B (2014), pp.313-320.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-371141
American Medical Association (AMA)
Tariq, Hibah Salam. Deposited nanostructure Cds thin film by using pulse laser deposition technique for fabrication of heterojunction solar cell. Engineering and Technology Journal. 2014. Vol. 32, no. 2B, pp.313-320.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-371141
Data Type
Journal Articles
Language
English
Notes
Includes appendices : p. 317-320
Record ID
BIM-371141