The effect of annealing on nano-topography of SiO2 film
Other Title(s)
تأثير التلدين على الطوبغرافية النانوية لغشاء SiO2
Author
Source
Issue
Vol. 25, Issue 2 (30 Jun. 2014), pp.74-86, 13 p.
Publisher
University of Mosul College of Science
Publication Date
2014-06-30
Country of Publication
Iraq
No. of Pages
13
Main Subjects
Topics
Abstract AR
في هذا البحث تمت دراسة تأثير درجة حرارة التلدين للمدى من 300˚C إلى 600˚C على الطوبغرافية النانوية لغشاء SiO2.
تم أنماء غشاء نانوي من SiO2على أرضية (100) Si نوع p-type و ذلك باستخدام تقنية الأكسدة الانودية و باستعمال محلول (% 75H2O + % 25 isopropanol) بوجود 0.1N KNO3 كالكتروليت مساعد وجهد مسلط 5 فولت.
و لوحظ من التحليل الكيميائي لسطح SiO2 باستخدام (EDAX) وجود عنصر الأوكسجين (O) و عنصر السليكون (Si).
تم استخدام تقنية AFM لدراسة الطوبغرافية النانوية لغشاء SiO2 و لوحظ أن كلأ من الخصائص التالية، الطوبغرافية الثانوية لغشاء SiO2، معدل خشونة، مساحة الحبيبة، حجم الحبيبة و أخيرا طول الحبيبة مع درجة حرارة التلدين.
Abstract EN
This research studies the effect of annealing in temperature range (300-600)°C on nano-topography of SiO2 film.
SiO2 nano film growth on Si (100) p-type substrates, by using the anodic oxidation technique using (% 75H2O + % 25 isopropanol) solution containing 0.1N KNO3 as supporting electrolyte and applied potential is 5 volts.
The chemical analysis of the surface of SiO2 has been done by (EDAX) shows the presence of O and Si elements.
(AFM) is used to study the nanotopography of SiO2 nano film.
However, it has been found that all of the following characteristics, root mean square RMS surface roughness of the SiO2 film, grain area, grain volume and grain length increase with the increase of annealing temperature.
American Psychological Association (APA)
Isa, Asim A.. 2014. The effect of annealing on nano-topography of SiO2 film. Rafidain Journal of Science،Vol. 25, no. 2, pp.74-86.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-374974
Modern Language Association (MLA)
Isa, Asim A.. The effect of annealing on nano-topography of SiO2 film. Rafidain Journal of Science Vol. 25, no. 2 (2014), pp.74-86.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-374974
American Medical Association (AMA)
Isa, Asim A.. The effect of annealing on nano-topography of SiO2 film. Rafidain Journal of Science. 2014. Vol. 25, no. 2, pp.74-86.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-374974
Data Type
Journal Articles
Language
English
Notes
Includes bibliographical references : p. 85-86
Record ID
BIM-374974
