Elaboration par RF magnetron et caracterisations des revetements durs Mo-Cr-N

Joint Authors

Zarkout, S.
Rahil, I.
Chekour, L.
Ashur, S.

Source

Sciences et Technologie : Sciences Exactes

Issue

Vol. 2016, Issue 43 (30 Jun. 2016), pp.15-18, 4 p.

Publisher

University of Mentouri

Publication Date

2016-06-30

Country of Publication

Algeria

No. of Pages

4

Main Subjects

Biology

Abstract EN

Ternary layers of Mo-Cr-N were deposited using were deposited on single crystal Si(100) wafers by RF planar magnetron sputtering.

Analysis EDS of the films Mo-Cr reveals the existence of chromium and molybdenum.

This is in agreement with the composition of the target (Cr: 20% at.; Mo: 80% at.).

The thickness of the films Mo-Cr-N increases with time of deposition.

The structure crystalline is improved.

The presence of nitrogen decreases the thickness of films and increases the width of the columns.

The grains size increase wit annealing temperature.

On the other hand, the interreticulaire distance decrease.

It was showed that the Mo-Cr-N structure films are same “cauliflower heads”.

The effect of shade of columns and relaxation stress can be the origin of the existence of the discontinuity of the matter.

Annealing temperature increase films crystallinity.

The X-ray diffraction did not reveal presence of oxide phases.

It indicates a good thermal stability of films.

But appearance cracks show one bad adherence of films on the silicon substrate

Abstract FRE

Des couches ternaires de Mo-Cr-N ont été élaborées par PVD magnétron.

L’analyse EDS des films Mo-Cr révèle l’existence du chrome et du molybdène.

Ceci est en accord avec la composition de la cible (Cr 20% at.

Mo 80 % at).

L’épaisseur des films Mo-Cr-N augmente avec le temps de dépôt.

Leur cristallinité se trouve améliorée.

La présence de l’azote diminue l’épaisseur des films et augmente la largeur des colonnes.

On note que la taille des grains augmente avec la température du recuit.

Par contre la distance interréticulaire diminue.

Au MEB, il a été montré que la structure des films Mo-Cr-N est en « têtes de chou-fleur ».

Chaque « tête de chou-fleur » est elle-même constituée de nodules qui terminent des colonnes plus fines.

L’effet d’ombrage, et la relaxation des contraintes peuvent être à l’origine de l’existence de la discontinuité de la matière observée.

Les recuits à différentes températures augmentent la cristallinité des films.

La diffraction des RX n’a pas révélé de présence de phases d’oxydes.

Ce qui indique une bonne stabilité thermique des films élaborés.

Mais l’apparition progressive, en fonction de la température de recuit, des fissures montre une mauvaise adhérence des ces films sur le substrat de silicium.

American Psychological Association (APA)

Rahil, I.& Chekour, L.& Ashur, S.& Zarkout, S.. 2016. Elaboration par RF magnetron et caracterisations des revetements durs Mo-Cr-N. Sciences et Technologie : Sciences Exactes،Vol. 2016, no. 43, pp.15-18.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-751310

Modern Language Association (MLA)

Rahil, I.…[et al.]. Elaboration par RF magnetron et caracterisations des revetements durs Mo-Cr-N. Sciences et Technologie : Sciences Exactes No. 43 (Jun. 2016), pp.15-18.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-751310

American Medical Association (AMA)

Rahil, I.& Chekour, L.& Ashur, S.& Zarkout, S.. Elaboration par RF magnetron et caracterisations des revetements durs Mo-Cr-N. Sciences et Technologie : Sciences Exactes. 2016. Vol. 2016, no. 43, pp.15-18.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-751310

Data Type

Journal Articles

Language

French

Notes

Includes bibliographical references : p. 18

Record ID

BIM-751310