![](/images/graphics-bg.png)
Study of Interface Charge Densities for ZrO2 and HfO2 Based Metal-Oxide-Semiconductor Devices
المؤلفون المشاركون
Maity, N. P.
Maity, Reshmi
Baishya, S.
Thapa, R. K.
المصدر
Advances in Materials Science and Engineering
العدد
المجلد 2014، العدد 2014 (31 ديسمبر/كانون الأول 2014)، ص ص. 1-6، 6ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2014-08-20
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
6
الملخص EN
A thickness-dependent interfacial distribution of oxide charges for thin metal oxide semiconductor (MOS) structures using high-k materials ZrO2 and HfO2 has been methodically investigated.
The interface charge densities are analyzed using capacitance-voltage (C-V) method and also conductance (G-V) method.
It indicates that, by reducing the effective oxide thickness (EOT), the interface charge densities (Dit) increases linearly.
For the same EOT, Dit has been found for the materials to be of the order of 1012 cm−2 eV−1 and it is originated to be in good agreement with published fabrication results at p-type doping level of 1×1017 cm−3.
Numerical calculations and solutions are performed by MATLAB and device simulation is done by ATLAS.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Maity, N. P.& Maity, Reshmi& Thapa, R. K.& Baishya, S.. 2014. Study of Interface Charge Densities for ZrO2 and HfO2 Based Metal-Oxide-Semiconductor Devices. Advances in Materials Science and Engineering،Vol. 2014, no. 2014, pp.1-6.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1034269
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Maity, N. P.…[et al.]. Study of Interface Charge Densities for ZrO2 and HfO2 Based Metal-Oxide-Semiconductor Devices. Advances in Materials Science and Engineering No. 2014 (2014), pp.1-6.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1034269
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Maity, N. P.& Maity, Reshmi& Thapa, R. K.& Baishya, S.. Study of Interface Charge Densities for ZrO2 and HfO2 Based Metal-Oxide-Semiconductor Devices. Advances in Materials Science and Engineering. 2014. Vol. 2014, no. 2014, pp.1-6.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1034269
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-1034269
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
![](/images/ebook-kashef.png)
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
![](/images/kashef-image.png)