![](/images/graphics-bg.png)
Effects of Hydrogen Plasma on the Electrical Properties of F-Doped ZnO Thin Films and p-i-n α -Si:H Thin Film Solar Cells
المؤلفون المشاركون
Wang, Fang-Hsing
Hung, Shang-Chao
Lee, Yen-Hsien
Yang, Cheng-Fu
المصدر
International Journal of Photoenergy
العدد
المجلد 2014، العدد 2014 (31 ديسمبر/كانون الأول 2014)، ص ص. 1-7، 7ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2014-05-04
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
7
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
1.5 wt% zinc fluoride (ZnF2) was mixed with zinc oxide powder to form the F-doped ZnO (FZO) composition.
At first, the FZO thin films were deposited at room temperature and 5 × 10 - 3 Torr in pure Ar under different deposition power.
Hall measurements of the as-deposited FZO thin films were investigated, and then the electrical properties were used to find the deposition power causing the FZO thin films with minimum resistance.
The FZO thin films with minimum resistance were further treated by H2 plasma and then found their variations in the electrical properties by Hall measurements.
Hydrochloric (HCl) acid solutions with different concentrations (0.1%, 0.2%, and 0.5%) were used to etch the surfaces of the FZO thin films.
Finally, the as-deposited, HCl-etched as-deposited, and HCl-etched H2-plasma-treated FZO thin films were used as transparent electrodes to fabricate the p-i-n α-Si:H thin film solar cells and their characteristics were compared in this study.
We would show that using H2-plasma-treated and HCl-etched FZO thin films as transparent electrodes would improve the efficiency of the fabricated thin film solar cells.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Wang, Fang-Hsing& Hung, Shang-Chao& Yang, Cheng-Fu& Lee, Yen-Hsien. 2014. Effects of Hydrogen Plasma on the Electrical Properties of F-Doped ZnO Thin Films and p-i-n α -Si:H Thin Film Solar Cells. International Journal of Photoenergy،Vol. 2014, no. 2014, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1036922
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Wang, Fang-Hsing…[et al.]. Effects of Hydrogen Plasma on the Electrical Properties of F-Doped ZnO Thin Films and p-i-n α -Si:H Thin Film Solar Cells. International Journal of Photoenergy No. 2014 (2014), pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1036922
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Wang, Fang-Hsing& Hung, Shang-Chao& Yang, Cheng-Fu& Lee, Yen-Hsien. Effects of Hydrogen Plasma on the Electrical Properties of F-Doped ZnO Thin Films and p-i-n α -Si:H Thin Film Solar Cells. International Journal of Photoenergy. 2014. Vol. 2014, no. 2014, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1036922
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-1036922
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
![](/images/ebook-kashef.png)
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
![](/images/kashef-image.png)