![](/images/graphics-bg.png)
Study on the Microstructure and Electrical Properties of Boron and Sulfur Codoped Diamond Films Deposited Using Chemical Vapor Deposition
المؤلفون المشاركون
Jing, Zhang
Rongbin, Li
Xianghu, Wang
Xicheng, Wei
المصدر
العدد
المجلد 2014، العدد 2014 (31 ديسمبر/كانون الأول 2014)، ص ص. 1-7، 7ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2014-05-21
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
7
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
The atomic-scale microstructure and electron emission properties of boron and sulfur (denoted as B-S) codoped diamond films grown on high-temperature and high-pressure (HTHP) diamond and Si substrates were investigated using atom force microscopy (AFM), scanning tunneling microscopy (STM), secondary ion mass spectroscopy (SIMS), and current imaging tunneling spectroscopy (CITS) measurement techniques.
The films grown on Si consisted of large grains with secondary nucleation, whereas those on HTHP diamond are composed of well-developed polycrystalline facets with an average size of 10–50 nm.
SIMS analyses confirmed that sulfur was successfully introduced into diamond films, and a small amount of boron facilitated sulfur incorporation into diamond.
Large tunneling currents were observed at some grain boundaries, and the emission character was better at the grain boundaries than that at the center of the crystal.
The films grown on HTHP diamond substrates were much more perfect with higher quality than the films deposited on Si substrates.
The local I-V characteristics for films deposited on Si or HTHP diamond substrates indicate n-type conduction.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Jing, Zhang& Rongbin, Li& Xianghu, Wang& Xicheng, Wei. 2014. Study on the Microstructure and Electrical Properties of Boron and Sulfur Codoped Diamond Films Deposited Using Chemical Vapor Deposition. Journal of Nanomaterials،Vol. 2014, no. 2014, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1041208
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Jing, Zhang…[et al.]. Study on the Microstructure and Electrical Properties of Boron and Sulfur Codoped Diamond Films Deposited Using Chemical Vapor Deposition. Journal of Nanomaterials No. 2014 (2014), pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1041208
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Jing, Zhang& Rongbin, Li& Xianghu, Wang& Xicheng, Wei. Study on the Microstructure and Electrical Properties of Boron and Sulfur Codoped Diamond Films Deposited Using Chemical Vapor Deposition. Journal of Nanomaterials. 2014. Vol. 2014, no. 2014, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1041208
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-1041208
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
![](/images/ebook-kashef.png)
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
![](/images/kashef-image.png)