A Study of Thin Film Resistors Prepared Using Ni-Cr-Si-Al-Ta High Entropy Alloy
المؤلفون المشاركون
Lee, Ying-Chieh
Lin, Ruei-Cheng
Lee, Tai-Kuang
Wu, Der-Ho
المصدر
Advances in Materials Science and Engineering
العدد
المجلد 2015، العدد 2015 (31 ديسمبر/كانون الأول 2015)، ص ص. 1-7، 7ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2015-05-04
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
7
الملخص EN
Ni-Cr-Si-Al-Ta resistive thin films were prepared on glass and Al2O3 substrates by DC magnetron cosputtering from targets of Ni0.35-Cr0.25-Si0.2-Al0.2 casting alloy and Ta metal.
Electrical properties and microstructures of Ni-Cr-Si-Al-Ta films under different sputtering powers and annealing temperatures were investigated.
The phase evolution, microstructure, and composition of Ni-Cr-Si-Al-Ta films were characterized by X-ray diffraction (XRD), transmission electron microscopy (TEM), and Auger electron spectroscopy (AES).
When the annealing temperature was set to 300°C, the Ni-Cr-Si-Al-Ta films with an amorphous structure were observed.
When the annealing temperature was at 500°C, the Ni-Cr-Si-Al-Ta films crystallized into Al0.9Ni4.22, Cr2Ta, and Ta5Si3 phases.
The Ni-Cr-Si-Al-Ta films deposited at 100 W and annealed at 300°C which exhibited the higher resistivity 2215 μΩ-cm with −10 ppm/°C of temperature coefficient of resistance (TCR).
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Lin, Ruei-Cheng& Lee, Tai-Kuang& Wu, Der-Ho& Lee, Ying-Chieh. 2015. A Study of Thin Film Resistors Prepared Using Ni-Cr-Si-Al-Ta High Entropy Alloy. Advances in Materials Science and Engineering،Vol. 2015, no. 2015, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1053683
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Lin, Ruei-Cheng…[et al.]. A Study of Thin Film Resistors Prepared Using Ni-Cr-Si-Al-Ta High Entropy Alloy. Advances in Materials Science and Engineering No. 2015 (2015), pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1053683
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Lin, Ruei-Cheng& Lee, Tai-Kuang& Wu, Der-Ho& Lee, Ying-Chieh. A Study of Thin Film Resistors Prepared Using Ni-Cr-Si-Al-Ta High Entropy Alloy. Advances in Materials Science and Engineering. 2015. Vol. 2015, no. 2015, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1053683
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-1053683
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر