![](/images/graphics-bg.png)
A Study of Thin Film Resistors Prepared Using Ni-Cr-Si-Al-Ta High Entropy Alloy
المؤلفون المشاركون
Lee, Ying-Chieh
Lin, Ruei-Cheng
Lee, Tai-Kuang
Wu, Der-Ho
المصدر
Advances in Materials Science and Engineering
العدد
المجلد 2015، العدد 2015 (31 ديسمبر/كانون الأول 2015)، ص ص. 1-7، 7ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2015-05-04
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
7
الملخص EN
Ni-Cr-Si-Al-Ta resistive thin films were prepared on glass and Al2O3 substrates by DC magnetron cosputtering from targets of Ni0.35-Cr0.25-Si0.2-Al0.2 casting alloy and Ta metal.
Electrical properties and microstructures of Ni-Cr-Si-Al-Ta films under different sputtering powers and annealing temperatures were investigated.
The phase evolution, microstructure, and composition of Ni-Cr-Si-Al-Ta films were characterized by X-ray diffraction (XRD), transmission electron microscopy (TEM), and Auger electron spectroscopy (AES).
When the annealing temperature was set to 300°C, the Ni-Cr-Si-Al-Ta films with an amorphous structure were observed.
When the annealing temperature was at 500°C, the Ni-Cr-Si-Al-Ta films crystallized into Al0.9Ni4.22, Cr2Ta, and Ta5Si3 phases.
The Ni-Cr-Si-Al-Ta films deposited at 100 W and annealed at 300°C which exhibited the higher resistivity 2215 μΩ-cm with −10 ppm/°C of temperature coefficient of resistance (TCR).
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Lin, Ruei-Cheng& Lee, Tai-Kuang& Wu, Der-Ho& Lee, Ying-Chieh. 2015. A Study of Thin Film Resistors Prepared Using Ni-Cr-Si-Al-Ta High Entropy Alloy. Advances in Materials Science and Engineering،Vol. 2015, no. 2015, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1053683
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Lin, Ruei-Cheng…[et al.]. A Study of Thin Film Resistors Prepared Using Ni-Cr-Si-Al-Ta High Entropy Alloy. Advances in Materials Science and Engineering No. 2015 (2015), pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1053683
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Lin, Ruei-Cheng& Lee, Tai-Kuang& Wu, Der-Ho& Lee, Ying-Chieh. A Study of Thin Film Resistors Prepared Using Ni-Cr-Si-Al-Ta High Entropy Alloy. Advances in Materials Science and Engineering. 2015. Vol. 2015, no. 2015, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1053683
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-1053683
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
![](/images/ebook-kashef.png)
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
![](/images/kashef-image.png)