![](/images/graphics-bg.png)
The Optimum Fabrication Condition of p-Type Antimony Tin Oxide Thin Films Prepared by DC Magnetron Sputtering
المؤلفون المشاركون
Hieu, Le Van
Dang, Huu Phuc
Luc, Quang Ho
Le, Tran
المصدر
العدد
المجلد 2016، العدد 2016 (31 ديسمبر/كانون الأول 2016)، ص ص. 1-11، 11ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2016-05-23
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
11
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
Transparent Sb-doped tin oxide (ATO) thin films were fabricated on quartz glass substrates via a mixed (SnO2 + Sb2O3) ceramic target using direct current (DC) magnetron sputtering in ambient Ar gas at a working pressure of 2 × 10−3 torr.
X-ray diffraction (XRD), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), Hall-effect, and UV-vis spectra measurements were performed to characterize the deposited films.
The substrate temperature of the films was investigated in two ways: (1) films were annealed in Ar ambient gas after being deposited at room temperature or (2) they were deposited directly at different temperatures.
The first process for fabricating the ATO films was found to be easier than the second process.
The deposited films showed p-type electrical properties, a polycrystalline tetragonal rutile structure, and their average transmittance was greater than 80% in the visible light range at the optimum annealing temperature of 500°C.
The best electrical properties of the film were obtained on a 10 wt% Sb2O3-doped SnO2 target with a resistivity, hole concentration, and Hall mobility of 0.55 Ω·cm, 1.2 × 1019 cm−3, and 0.54 cm2V−1s−1, respectively.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Dang, Huu Phuc& Luc, Quang Ho& Le, Tran& Hieu, Le Van. 2016. The Optimum Fabrication Condition of p-Type Antimony Tin Oxide Thin Films Prepared by DC Magnetron Sputtering. Journal of Nanomaterials،Vol. 2016, no. 2016, pp.1-11.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1109383
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Dang, Huu Phuc…[et al.]. The Optimum Fabrication Condition of p-Type Antimony Tin Oxide Thin Films Prepared by DC Magnetron Sputtering. Journal of Nanomaterials No. 2016 (2016), pp.1-11.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1109383
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Dang, Huu Phuc& Luc, Quang Ho& Le, Tran& Hieu, Le Van. The Optimum Fabrication Condition of p-Type Antimony Tin Oxide Thin Films Prepared by DC Magnetron Sputtering. Journal of Nanomaterials. 2016. Vol. 2016, no. 2016, pp.1-11.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-1109383
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-1109383
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
![](/images/ebook-kashef.png)
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
![](/images/kashef-image.png)