On the influence of metal deposition on responsivity peak of cleaned silicon photodetector
العناوين الأخرى
دراسة تأثير طلاء كاشف السليكون غير المؤكسد بالمعادن على قمة الاستجابة الطيفية
المؤلفون المشاركون
Ismail, Raid Abd al-Wahhab
al-Tai, Khalid Z.
Ismail, Munaf R.
المصدر
Engineering and Technology Journal
العدد
المجلد 24، العدد 3 (31 ديسمبر/كانون الأول 2005)، ص ص. 245-251، 7ص.
الناشر
تاريخ النشر
2005-12-31
دولة النشر
العراق
عدد الصفحات
7
التخصصات الرئيسية
الموضوعات
الملخص AR
في هذا البحث، تم إشابة شرائح سليكونية قابلة ذات توجهية (111) و مقاومة نوعية .
cmΩ بمادة الفسفور المانحة و بطريقة الانتشار الحراري لتصنيع كاشف P-n السليكوني.
جرى دراسة الخصائص الكهروبصرية الأساسية لهذه الكواشف.
ثم رسبت بعد ذلك أغشية عالية النقاوة من مادة Cu و Bi و Ag و AI على المساحة الفعالة للكاشف (الجهة المانحة).
استنادا إلى مبدئي النفاذية و الامتصاصية لهذه الأغشية، انخفضت الاستجابية للكواشف المطلية في المنطقة تحت الحمراء القريبة لتنتج بدلا عنها قمة استجابية عند الطول الموجي 600 ± 25 nm.
الملخص EN
In the present work, p-type Si wafer of (111) orientation and 3 Ω.
cm resistivity had been doped with phosphor by thermal diffusion process to fabricate p-n junction detector.
The main optoelectronic properties of the fabricated detectors were studied.
Thin films of ultrapure Cu, Bi, Ag, and Al were deposited on the sensitive area of the detectors (donor side).
On the base of the transmission and absorption phenomena of the deposited films, peak response data of these detectors that conventionally at near IR (850-900 nm) before deposition was reduced and resulted in peak response at 600 ± 25 nm after deposition.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Ismail, Raid Abd al-Wahhab& al-Tai, Khalid Z.& Ismail, Munaf R.. 2005. On the influence of metal deposition on responsivity peak of cleaned silicon photodetector. Engineering and Technology Journal،Vol. 24, no. 3, pp.245-251.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-293702
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Ismail, Raid Abd al-Wahhab…[et al.]. On the influence of metal deposition on responsivity peak of cleaned silicon photodetector. Engineering and Technology Journal Vol. 24, no. 3 (2005), pp.245-251.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-293702
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Ismail, Raid Abd al-Wahhab& al-Tai, Khalid Z.& Ismail, Munaf R.. On the influence of metal deposition on responsivity peak of cleaned silicon photodetector. Engineering and Technology Journal. 2005. Vol. 24, no. 3, pp.245-251.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-293702
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes appendices : p. 249-251
رقم السجل
BIM-293702
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر