![](/images/graphics-bg.png)
Effect of silicon substrate on the x-ray photoemission quantum yield in chromium thin films
المؤلفون المشاركون
المصدر
العدد
المجلد 2001، العدد 10 (30 يونيو/حزيران 2001)4ص.
الناشر
تاريخ النشر
2001-06-30
دولة النشر
الجزائر
عدد الصفحات
4
التخصصات الرئيسية
العلوم الهندسية والتكنولوجية (متداخلة التخصصات)
الملخص EN
-The x-ruy phutuemisxivn in pulses is calculated ui the absorption K-tdge of chromium in Cr and Cr/Si thin films.
For a given incidence angle, the photoemission in Cr films increases with increasing the thickness and saturates at the value 1500 A.
However, for Cr/Si system, the aspect of calculated curves changes completely and the emitted photoelectrons may issue from a thickness three times more important.
The distribution in depth of the photoemitted electrons of the different types is established for both Cr and Cr/Si thin films.
The magnitudes of the photoemission drops are related to the Crfiilm thickness and to the Si substrate.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Bouabellou, A.& Belaissaoui, O.. 2001. Effect of silicon substrate on the x-ray photoemission quantum yield in chromium thin films. Synthèse،Vol. 2001, no. 10.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-390156
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Bouabellou, A.& Belaissaoui, O.. Effect of silicon substrate on the x-ray photoemission quantum yield in chromium thin films. Synthèse No. 10 (Jun. 2001).
https://search.emarefa.net/detail/BIM-390156
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Bouabellou, A.& Belaissaoui, O.. Effect of silicon substrate on the x-ray photoemission quantum yield in chromium thin films. Synthèse. 2001. Vol. 2001, no. 10.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-390156
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes appendices.
رقم السجل
BIM-390156
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
![](/images/ebook-kashef.png)
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
![](/images/kashef-image.png)