Inductively Coupled Plasma Sources and Applications
المؤلف
المصدر
Physics Research International
العدد
المجلد 2010، العدد 2010 (31 ديسمبر/كانون الأول 2010)، ص ص. 1-14، 14ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2011-02-20
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
14
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
The principle of inductively coupled plasma (ICP) and perspective of ICP development are reviewed.
Multispiral coil ICP (MSC-ICP), which has the advantages of low inductance, high efficiency, and excellent uniformity, is discussed in detail.
Applications to thin film processing technologies and the future prospects of ICP are also described.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Okumura, Tomohiro. 2011. Inductively Coupled Plasma Sources and Applications. Physics Research International،Vol. 2010, no. 2010, pp.1-14.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-450998
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Okumura, Tomohiro. Inductively Coupled Plasma Sources and Applications. Physics Research International No. 2010 (2010), pp.1-14.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-450998
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Okumura, Tomohiro. Inductively Coupled Plasma Sources and Applications. Physics Research International. 2011. Vol. 2010, no. 2010, pp.1-14.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-450998
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-450998
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
