17.6% Conversion Efficiency Multicrystalline Silicon Solar Cells Using the Reactive Ion Etching with the Damage Removal Etching
المؤلفون المشاركون
Shim, Ji-Myung
Oh, Dong-Joon
Lee, Hae-Seok
Kim, Ji-Soo
Cho, Kyeong-Yeon
Seo, Jae-Keun
Choi, Jun-Young
Lee, Soo-Hong
Kong, Ji-Hyun
Lee, Hyun-Woo
Kim, Ji-Sun
Lee, Eun-Joo
Shin, Jeong-Eun
المصدر
International Journal of Photoenergy
العدد
المجلد 2012، العدد 2012 (31 ديسمبر/كانون الأول 2012)، ص ص. 1-6، 6ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2012-03-06
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
6
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
For lower reflectance, we applied a maskless plasma texturing technique using reactive ion etching (RIE) on acidic-textured multicrystalline silicon (mc-Si) wafer.
RIE texturing had a deep and narrow textured surface and showed excellent low reflectance.
Due to plasma-induced damage, unless the RIE-textured surfaces have the proper damage removal etching (DRE), they have a drop in V oc and FF.
RIE texturing with a proper DRE had sufficiently higher short circuit current (Isc) than acidic-textured samples without a drop in open circuit voltage (V oc ).
And in order to improve efficiency of mc-Si solar cell, we applied RIE texturing with optimized DRE condition to selective emitter structure.
In comparison with the acidic-textured solar cells, RIE-textured solar cells have above 200 mA absolute gain in Isc.
And optimized RIE samples with a DRE by HNO3/HF mixture showed 17.6% conversion efficiency, which were made using an industrial screen printing process with selective emitter structure.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Shim, Ji-Myung& Lee, Hyun-Woo& Cho, Kyeong-Yeon& Seo, Jae-Keun& Kim, Ji-Soo& Lee, Eun-Joo…[et al.]. 2012. 17.6% Conversion Efficiency Multicrystalline Silicon Solar Cells Using the Reactive Ion Etching with the Damage Removal Etching. International Journal of Photoenergy،Vol. 2012, no. 2012, pp.1-6.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-457169
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Shim, Ji-Myung…[et al.]. 17.6% Conversion Efficiency Multicrystalline Silicon Solar Cells Using the Reactive Ion Etching with the Damage Removal Etching. International Journal of Photoenergy No. 2012 (2012), pp.1-6.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-457169
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Shim, Ji-Myung& Lee, Hyun-Woo& Cho, Kyeong-Yeon& Seo, Jae-Keun& Kim, Ji-Soo& Lee, Eun-Joo…[et al.]. 17.6% Conversion Efficiency Multicrystalline Silicon Solar Cells Using the Reactive Ion Etching with the Damage Removal Etching. International Journal of Photoenergy. 2012. Vol. 2012, no. 2012, pp.1-6.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-457169
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-457169
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر