A Very Robust AlGaNGaN HEMT Technology to High Forward Gate Bias and Current

المؤلفون المشاركون

Vetury, Ramakrishna
Heller, Eric R.
Shealy, Jeffrey B.
Coutu, Ronald A.
Christiansen, Bradley D.

المصدر

Active and Passive Electronic Components

العدد

المجلد 2012، العدد 2012 (31 ديسمبر/كانون الأول 2012)، ص ص. 1-4، 4ص.

الناشر

Hindawi Publishing Corporation

تاريخ النشر

2012-08-28

دولة النشر

مصر

عدد الصفحات

4

التخصصات الرئيسية

الفيزياء

الملخص EN

Reports to date of GaN HEMTs subjected to forward gate bias stress include varied extents of degradation.

We report an extremely robust GaN HEMT technology that survived—contrary to conventional wisdom—high forward gate bias (+6 V) and current (>1.8 A/mm) for >17.5 hours exhibiting only a slight change in gate diode characteristic, little decrease in maximum drain current, with only a 0.1 V positive threshold voltage shift, and, remarkably, a persisting breakdown voltage exceeding 200 V.

نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)

Christiansen, Bradley D.& Heller, Eric R.& Coutu, Ronald A.& Vetury, Ramakrishna& Shealy, Jeffrey B.. 2012. A Very Robust AlGaNGaN HEMT Technology to High Forward Gate Bias and Current. Active and Passive Electronic Components،Vol. 2012, no. 2012, pp.1-4.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-476044

نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)

Christiansen, Bradley D.…[et al.]. A Very Robust AlGaNGaN HEMT Technology to High Forward Gate Bias and Current. Active and Passive Electronic Components No. 2012 (2012), pp.1-4.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-476044

نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)

Christiansen, Bradley D.& Heller, Eric R.& Coutu, Ronald A.& Vetury, Ramakrishna& Shealy, Jeffrey B.. A Very Robust AlGaNGaN HEMT Technology to High Forward Gate Bias and Current. Active and Passive Electronic Components. 2012. Vol. 2012, no. 2012, pp.1-4.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-476044

نوع البيانات

مقالات

لغة النص

الإنجليزية

الملاحظات

Includes bibliographical references

رقم السجل

BIM-476044