Stoichiometry Control of ZnO Thin Film by Adjusting Working Gas Ratio during Radio Frequency Magnetron Sputtering
المؤلفون المشاركون
Li, Xin
Furuta, Mamoru
Li, Zeming
Li, Chaoyang
Kawaharamura, Toshiyuki
Wang, Dapeng
المصدر
العدد
المجلد 2013، العدد 2013 (31 ديسمبر/كانون الأول 2013)، ص ص. 1-6، 6ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2013-02-28
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
6
التخصصات الرئيسية
علم المواد والمعادن
هندسة مدنية
الملخص EN
ZnO thin films were deposited on quartz glasses by a radio frequency (rf) magnetron sputtering.
The mechanism for stoichiometry in the ZnO thin films was investigated by adjusting Ar/O2 working gas ratio during deposition.
The optical emission spectroscopy (OES) in situ measurement revealed the kinetics species variation during rf plasma deposition process.
It was found that the intensity of the excited atomic oxygen (O*) was increased with the oxygen ratio increasing, resulting in enhancing the oxidization effect during ZnO film fabrication.
On the contrary, the intensities of atomic zinc emission were gradually decreased, resulting in the zinc ratio in the film were decreased with the oxygen ratio increasing.
Therefore, it is possible to control the stoichiometry of ZnO film by simply adjusting the working gas ambient in the rf plasma deposition.
The structural and optical properties of ZnO thin films were investigated as well.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Li, Chaoyang& Wang, Dapeng& Li, Zeming& Li, Xin& Kawaharamura, Toshiyuki& Furuta, Mamoru. 2013. Stoichiometry Control of ZnO Thin Film by Adjusting Working Gas Ratio during Radio Frequency Magnetron Sputtering. Journal of Materials،Vol. 2013, no. 2013, pp.1-6.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-480443
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Li, Chaoyang…[et al.]. Stoichiometry Control of ZnO Thin Film by Adjusting Working Gas Ratio during Radio Frequency Magnetron Sputtering. Journal of Materials No. 2013 (2013), pp.1-6.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-480443
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Li, Chaoyang& Wang, Dapeng& Li, Zeming& Li, Xin& Kawaharamura, Toshiyuki& Furuta, Mamoru. Stoichiometry Control of ZnO Thin Film by Adjusting Working Gas Ratio during Radio Frequency Magnetron Sputtering. Journal of Materials. 2013. Vol. 2013, no. 2013, pp.1-6.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-480443
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-480443
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر