![](/images/graphics-bg.png)
RF Magnetron Sputtering Aluminum Oxide Film for Surface Passivation on Crystalline Silicon Wafers
المؤلفون المشاركون
Zeng, Libin
Hong, Ruijiang
Tao, Luping
Chen, Siming
المصدر
International Journal of Photoenergy
العدد
المجلد 2013، العدد 2013 (31 ديسمبر/كانون الأول 2013)، ص ص. 1-5، 5ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2013-02-02
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
5
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
Aluminum oxide films were deposited on crystalline silicon substrates by reactive RF magnetron sputtering.
The influences of the deposition parameters on the surface passivation, surface damage, optical properties, and composition of the films have been investigated.
It is found that proper sputtering power and uniform magnetic field reduced the surface damage from the high-energy ion bombardment to the silicon wafers during the process and consequently decreased the interface trap density, resulting in the good surface passivation; relatively high refractive index of aluminum oxide film is benefic to improve the surface passivation.
The negative-charged aluminum oxide film was then successfully prepared.
The surface passivation performance was further improved after postannealing by formation of an SiOx interfacial layer.
It is demonstrated that the reactive sputtering is an effective technique of fabricating aluminum oxide surface passivation film for low-cost high-efficiency crystalline silicon solar cells.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Chen, Siming& Tao, Luping& Zeng, Libin& Hong, Ruijiang. 2013. RF Magnetron Sputtering Aluminum Oxide Film for Surface Passivation on Crystalline Silicon Wafers. International Journal of Photoenergy،Vol. 2013, no. 2013, pp.1-5.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-498481
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Chen, Siming…[et al.]. RF Magnetron Sputtering Aluminum Oxide Film for Surface Passivation on Crystalline Silicon Wafers. International Journal of Photoenergy No. 2013 (2013), pp.1-5.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-498481
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Chen, Siming& Tao, Luping& Zeng, Libin& Hong, Ruijiang. RF Magnetron Sputtering Aluminum Oxide Film for Surface Passivation on Crystalline Silicon Wafers. International Journal of Photoenergy. 2013. Vol. 2013, no. 2013, pp.1-5.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-498481
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-498481
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
![](/images/ebook-kashef.png)
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
![](/images/kashef-image.png)