Characteristics and Photocatalytic Properties of TiO2 Thin Film Prepared by Sputter Deposition and Post-N+ Ion Implantation
المؤلفون المشاركون
Sato, Mitsunobu
Nakamura, Isao
Shukur, Haider A.
Takano, Ichiro
المصدر
Advances in Materials Science and Engineering
العدد
المجلد 2012، العدد 2012 (31 ديسمبر/كانون الأول 2012)، ص ص. 1-7، 7ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2011-12-19
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
7
التخصصات الرئيسية
العلوم الهندسية و تكنولوجيا المعلومات
الملخص EN
TiO2 thin films of a rutile, an anatase, and a mixture type with anatase and rutile were fabricated by a magnetron sputtering method.
The fabricated films were irradiated by N+ ions with several doses using the Freeman ion source.
Atomic force microscopy (AFM), X-ray diffraction (XRD), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), and UV-VIS spectrophotometer were employed to investigate morphology, structure, chemical state, and optical characteristics, respectively.
Photocatalytic activity was evaluated by degradation of a methylene blue solution using UV and visible light.
TiO2 thin films with each structure irradiated by N+ ions showed the different N concentration in the same N+ ion dose and the chemical state of XPS results suggested that an O atom in TiO2 lattice replaced by an N atom.
Therefore the photocatalytic activity of TiO2 thin films was improved under visible light.
The maximum photocatalytic activity of TiO2 thin films with each structure was indicated at N concentration of 2.1% for a rutile type, of 1.0% for an anatase type, and of 3.8% for a mixture type under the condition of 2.5×1015 ions/cm2 in N+ ion dose.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Shukur, Haider A.& Sato, Mitsunobu& Nakamura, Isao& Takano, Ichiro. 2011. Characteristics and Photocatalytic Properties of TiO2 Thin Film Prepared by Sputter Deposition and Post-N+ Ion Implantation. Advances in Materials Science and Engineering،Vol. 2012, no. 2012, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-508433
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Shukur, Haider A.…[et al.]. Characteristics and Photocatalytic Properties of TiO2 Thin Film Prepared by Sputter Deposition and Post-N+ Ion Implantation. Advances in Materials Science and Engineering No. 2012 (2012), pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-508433
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Shukur, Haider A.& Sato, Mitsunobu& Nakamura, Isao& Takano, Ichiro. Characteristics and Photocatalytic Properties of TiO2 Thin Film Prepared by Sputter Deposition and Post-N+ Ion Implantation. Advances in Materials Science and Engineering. 2011. Vol. 2012, no. 2012, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-508433
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-508433
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر