![](/images/graphics-bg.png)
Experiments on the Release of CMOS-Micromachined Metal Layers
المؤلفون المشاركون
Fernández, Daniel
Madrenas, Jordi
Ricart, Jordi
المصدر
العدد
المجلد 2010، العدد 2010 (31 ديسمبر/كانون الأول 2010)، ص ص. 1-7، 7ص.
الناشر
Hindawi Publishing Corporation
تاريخ النشر
2010-05-17
دولة النشر
مصر
عدد الصفحات
7
التخصصات الرئيسية
الملخص EN
We present experimental results on the release of MEMS devices manufactured using the standard CMOS interconnection metal layers as structural elements and the insulating silicon dioxide as sacrificial layers.
Experiments compare the release results of four different etching agents in a CMOS technology (hydrofluoric acid, ammonium fluoride, a mixture of acetic acid and ammonium fluoride, and hydrogen fluoride), describe various phenomena found during the etching process, and show the release results of multilayer structures.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Fernández, Daniel& Ricart, Jordi& Madrenas, Jordi. 2010. Experiments on the Release of CMOS-Micromachined Metal Layers. Journal of Sensors،Vol. 2010, no. 2010, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-509652
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Fernández, Daniel…[et al.]. Experiments on the Release of CMOS-Micromachined Metal Layers. Journal of Sensors No. 2010 (2010), pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-509652
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Fernández, Daniel& Ricart, Jordi& Madrenas, Jordi. Experiments on the Release of CMOS-Micromachined Metal Layers. Journal of Sensors. 2010. Vol. 2010, no. 2010, pp.1-7.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-509652
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references
رقم السجل
BIM-509652
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
![](/images/ebook-kashef.png)
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
![](/images/kashef-image.png)