Study on temperature and etching effects on silicon oxide formation using laser ellipsometric method
العناوين الأخرى
دراسة تأثير درجة الحرارة و التنميش في تكوين أوكسيد السيليكون باستخدام طريقة تدوير مستوى استقطاب الليزر
المؤلفون المشاركون
Jraiz, Ammar H.
Yahya, Khalid Z.
al-Baldawi, Ammar M.
المصدر
Engineering and Technology Journal
العدد
المجلد 25، العدد 06 (30 أغسطس/آب 2007)، ص ص. 797-807، 11ص.
الناشر
تاريخ النشر
2007-08-30
دولة النشر
العراق
عدد الصفحات
11
التخصصات الرئيسية
الموضوعات
الملخص AR
في هذا البحث استخدمت طريقة تدوير مستوى استقطاب شعاع الليزر لدراسة تكوين أغشية الاوكسيد على قاعدة سيليكونية في الهواء عند درجة حرارة الغرفة استخدم نوعان من الليزرات الأول ليزر الهليوم-نيون و الثاني ليزر أشباه الموصلات كما استخدم مصباح التنكستن كمصادر ضوئية في هذه الطريقة لبيان أهمية التشاكه على دقة النتائج.
جرت قياس سمك طبقة الاوكسيد و مقارنتها بالنتائج المحسوبة لطبقة أحادية من الاوكسيد، جرى دراسة سلوك الاكاسيد المتكونة حراريا باستخدام تقنية تدوير مستوى الاستقطاب لتحديد زاوية الاستقطاب كدالة لزمن التنميش.
الملخص EN
In this paper, a laser ellipsometric method is implemented to study the formation of oxide films on silicon substrate at room temperature in air.
Two lasers, He-Ne and semiconductor diode, as well as a tungsten halogen lamp, were used as a light source in this method to show the importance of coherency for accurate results.
The thickness of oxide layer was measured and the result is compared with that calculated for a monolayer of oxide.
Behavior of thermally formed oxides was studied using ellipsometry to determine polarizer angle as a function of etching time.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Yahya, Khalid Z.& al-Baldawi, Ammar M.& Jraiz, Ammar H.. 2007. Study on temperature and etching effects on silicon oxide formation using laser ellipsometric method. Engineering and Technology Journal،Vol. 25, no. 06, pp.797-807.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-52823
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Yahya, Khalid Z.…[et al.]. Study on temperature and etching effects on silicon oxide formation using laser ellipsometric method. Engineering and Technology Journal Vol. 25, no. 06 (2007), pp.797-807.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-52823
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Yahya, Khalid Z.& al-Baldawi, Ammar M.& Jraiz, Ammar H.. Study on temperature and etching effects on silicon oxide formation using laser ellipsometric method. Engineering and Technology Journal. 2007. Vol. 25, no. 06, pp.797-807.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-52823
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references : p. 803-804
رقم السجل
BIM-52823
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر